酒石酸修飾ニッケル触媒とその製造方法および(R)-3-ヒドロキシ酪酸メチルの製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：廣幸正樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-126770
公開番号（公開出願番号）：特開2012-250213
出願日： 2011年06月06日
公開日（公表日）： 2012年12月20日
要約：

【課題】光学活性な物質を得るための触媒として、酒石酸修飾ラネーニッケル触媒が有効であることが知られているが、この触媒は保存性に乏しく、修飾操作を行ったら、直ちにケト酸などの合成に利用しなければならないという課題があった。【解決手段】触媒の基材としてラネーニッケルではなく、平均粒径3μm程度のニッケル粒子を用い、酒石酸で修飾した後、乾燥させ粉末状態にすることで、低酸素雰囲気中での保存特性が飛躍的に向上し、およそ3ヶ月の保存後であっても、立体選択性が70%以上残っている。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ニッケル粒子を酒石酸で修飾し、乾燥させたことを特徴とする乾燥された酒石酸修飾ニッケル触媒。

IPC (4件)：

B01J 31/28 , C07C 69/675 , C07C 67/31 , B01J 33/00

FI (4件)：

B01J31/28 Z , C07C69/675 , C07C67/31 , B01J33/00 B

Fターム (36件)：

4G169AA02 , 4G169AA08 , 4G169AA09 , 4G169AA14 , 4G169BA21A , 4G169BA21B , 4G169BB02A , 4G169BB02B , 4G169BC68A , 4G169BC68B , 4G169BE08A , 4G169BE08B , 4G169CB02 , 4G169CB57 , 4G169CB70 , 4G169EA01Y , 4G169EB18Y , 4G169FA08 , 4G169FB14 , 4G169FB17 , 4G169FB20 , 4G169FB44 , 4G169FB57 , 4G169FC04 , 4G169FC07 , 4G169FC09 , 4H006AA02 , 4H006AC41 , 4H006BA21 , 4H006BA45 , 4H006BA81 , 4H006BE20 , 4H006BN10 , 4H006KA31 , 4H039CA60 , 4H039CB20

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭60-036442
光学活性含フッ素ヒドロキシ化合物の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-079046 出願人：旭硝子株式会社

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