特許
J-GLOBAL ID:201303016190318208
固体製品ディスペンサー、及び温度変化で固体製品の分配速度を制御するための方法及び装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (5件):
青木 篤
, 島田 哲郎
, 三橋 真二
, 大橋 康史
, 谷光 正晴
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-001112
公開番号(公開出願番号):特開2013-091061
出願日: 2013年01月08日
公開日(公表日): 2013年05月16日
要約:
【課題】希釈剤を固体にスプレーして、固体を溶解して使用溶液を生成するためのディスペンサーの提供。【解決手段】a)固体を保持するためのハウジング11、b)ハウジング11に保持された固体に希釈剤をスプレーして使用溶液を生成するためのスプレーノズル、c)前記スプレーノズルと流体連通している第1の流入希釈剤通路、d)ある圧力範囲内において前記希釈剤の圧力と無関係な第1の流れ範囲を維持するために、前記第1の流入希釈剤通路に配置された第1の流れ制御部、e)前記使用溶液と流体連通している第2の流入希釈剤通路、f)前記圧力範囲内において前記希釈剤の圧力と無関係な第2の流れ範囲を維持するために、前記第2の流入希釈剤通路に配置された第2の流れ制御部であって、前記使用溶液の濃度が前記圧力範囲にわたって維持される第2の流れ制御部、を備えるディスペンサー10.【選択図】図1
請求項(抜粋):
希釈剤を固体にスプレーして、使用溶液を生成するためのディスペンサーであって、
a)前記固体を保持するためのハウジングと、
b)希釈剤を固体に当てて、使用溶液を形成する際に使用するためのスプレーノズルと、
c)前記スプレーノズルと流体連通している第1の流入希釈剤通路と、
d)ある圧力範囲内において前記希釈剤の圧力と無関係な第1の流れ範囲を維持するために、前記第1の流入希釈剤通路に配置された第1の流れ制御部と、
e)前記使用溶液と流体連通している第2の流入希釈剤通路と、
f)前記圧力範囲内において前記希釈剤の圧力と無関係な第2の流れ範囲を維持するために、前記第2の流入希釈剤通路に配置された第2の流れ制御部であって、前記使用溶液の濃度が前記圧力範囲にわたって維持される第2の流れ制御部と、
を備えるディスペンサー。
IPC (3件):
B01F 1/00
, B01F 3/08
, B01F 15/02
FI (3件):
B01F1/00 F
, B01F3/08 Z
, B01F15/02 A
Fターム (8件):
4G035AA21
, 4G035AB36
, 4G035AE02
, 4G035AE13
, 4G035AE17
, 4G037AA02
, 4G037AA18
, 4G037EA01
引用特許:
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