特許
J-GLOBAL ID：201303016637212275
位相シフトマスク及び当該位相シフトマスクを用いたレジストパターン形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
山下 昭彦
, 岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-027701
公開番号（公開出願番号）：特開2013-190786
出願日： 2013年02月15日
公開日（公表日）： 2013年09月26日
要約：
【課題】従来の画像表示装置製造用露光装置を用い、透明基板等の被加工材上に、当該露光装置の解像限界未満の寸法を有する所定のレジストパターンを高精度で形成することのできる位相シフトマスク及び当該位相シフトマスクを用いたレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】露光装置の解像限界未満の設計寸法のレジストパターン形成用位相シフトマスクは、透明基板と、露光装置からの露光光に所定の位相差を付与する位相シフト部と、位相シフト部に隣接する非位相シフト部とを備え、位相シフト部及び非位相シフト部のうちの少なくともいずれか一方が露光装置の解像限界未満の寸法であり、かつ位相シフト部の寸法と非位相シフト部の寸法とが異なり、透明基板上における位相シフト部及び非位相シフト部を含むパターン領域の大きさが一辺300mm以上であり、少なくともパターン領域内に露光装置の解像限界未満の寸法の遮光部を有しない。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
露光装置からの露光により当該露光装置の解像限界未満の設計寸法のレジストパターンを被加工材上に形成するために用いられる位相シフトマスクであって、
透明基板と、
前記透明基板上に設けられてなり、前記露光装置からの露光光に所定の位相差を付与する凹状又は凸状の位相シフト部と、
前記位相シフト部に隣接する非位相シフト部と
を備え、
前記位相シフト部及び前記非位相シフト部のうちの少なくともいずれか一方が、前記露光装置の解像限界未満の寸法であって、かつ前記位相シフト部の寸法と前記非位相シフト部の寸法とが異なり、
前記位相シフト部及び前記非位相シフト部のうちの寸法の小さいいずれか一方が前記被加工材上のフォトレジスト膜を露光させない機能を果たし、他方が前記被加工材上のフォトレジスト膜を露光させる機能を果たすものであり、
前記透明基板上における前記位相シフト部及び前記非位相シフト部を含むパターン領域の大きさが、一辺300mm以上であり、
少なくとも前記パターン領域内には、前記露光装置の解像限界未満の寸法の、遮光膜により構成される遮光部が設けられていないことを特徴とする位相シフトマスク。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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