描画装置、および物品の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高岡亮一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-080137
公開番号（公開出願番号）：特開2013-211393
出願日： 2012年03月30日
公開日（公表日）： 2013年10月10日
要約：

【課題】開口部材を照射する荷電粒子線の調整に有利な描画装置を提供する。【解決手段】描画装置1は、複数の荷電粒子線4で基板6に描画を行う。この描画装置1は、荷電粒子線源2と、荷電粒子線源2から放射された荷電粒子線4を集束するレンズ30と、レンズ30により集束された荷電粒子線4を通過させる複数の開口を有する開口部材31と、荷電粒子線4の照射により開口部材31から生じた放射を検出する検出部8とを有する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

複数の荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置であって、荷電粒子線源と、前記荷電粒子線源から放射された前記荷電粒子線を集束するレンズと、前記レンズにより集束された荷電粒子線を通過させる複数の開口を有する開口部材と、前記荷電粒子線の照射により前記開口部材から生じた放射を検出する検出部と、を有することを特徴とする描画装置。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (3件)：

H01L21/30 541D , H01L21/30 541E , H01L21/30 541W

Fターム (12件)：

5F056AA07 , 5F056BA06 , 5F056BA09 , 5F056BB10 , 5F056BC04 , 5F056BC05 , 5F056CB05 , 5F056CB13 , 5F056CB16 , 5F056CC02 , 5F056EA03 , 5F056EA06

引用特許：

出願人引用 (8件)

特許第3800343号
荷電粒子線露光装置、荷電粒子線露光方法、およびデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-017699 出願人：キヤノン株式会社, 株式会社日立ハイテクノロジーズ
粒子線マルチビームリソグラフイー
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-230286 出願人：イーエムエスイオーネンミクロファブリカチオンスジステーメゲゼルシャフトミトベシュレンクテルハフツング

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