放射線の照射を用いたペルオキシレドキシンのシャペロン活性調節方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：恩田誠 , 恩田博宣 , 本田淳
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-534829
公開番号（公開出願番号）：特表2013-541341
出願日： 2011年10月25日
公開日（公表日）： 2013年11月14日
要約：

本発明は、ペルオキシレドキシン(Peroxiredoxin,Prx)タンパク質に放射線を照射してシャペロン活性を増進させる方法に関する。詳細には、ペルオキシレドキシンの二つの活性システインモチーフ(Active cysteine motif)である二種類のペルオキシレドキシン(2-Cys,3-Cys)に放射線を照射した後、タンパク質の構造変化及びシャペロン活性を分析した結果、放射線の照射によってαヘリックス構造が減少して、βシート構造が増加するというシャペロン活性増加の特徴が観察された。したがって、ペルオキシレドキシンのシャペロン活性を増進させて多様な環境ストレスに対する抵抗性を提供する組換えタンパク質及びその製造に有用に使用することができる。

請求項（抜粋）：

ペルオキシレドキシン(Peroxiredoxin)タンパク質に放射線を照射して、シャペロン活性を増進させる方法。

IPC (5件)：

C12N 9/02 , C07K 14/435 , A61K 38/44 , A61P 39/00 , A61K 41/00

FI (5件)：

C12N9/02 , C07K14/435 , A61K37/50 , A61P39/00 , A61K41/00

Fターム (36件)：

4B024AA01 , 4B024BA08 , 4B024CA03 , 4B024CA09 , 4B024CA11 , 4B024CA20 , 4B024DA06 , 4B024EA04 , 4B024GA11 , 4B024HA01 , 4B024HA09 , 4B050DD02 , 4B050HH01 , 4B050LL01 , 4C084AA02 , 4C084AA11 , 4C084BA01 , 4C084BA08 , 4C084BA22 , 4C084BA23 , 4C084CA04 , 4C084CA53 , 4C084DC23 , 4C084NA14 , 4C084ZC802 , 4H045AA10 , 4H045AA30 , 4H045BA10 , 4H045CA11 , 4H045CA40 , 4H045DA89 , 4H045EA20 , 4H045FA74 , 4H045GA15 , 4H045GA20 , 4H045GA31

引用文献：

出願人引用 (6件)

A new antioxidant with dual functions as a peroxidase and chaperone in Pseudomonas aeruginosa.
OxyR regulated the expression of two major catalases, KatA and KatB, along with peroxiredoxin, AhpC
Engineering of 2-Cys peroxiredoxin for enhanced stress-tolerance.

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審査官引用 (6件)

A new antioxidant with dual functions as a peroxidase and chaperone in Pseudomonas aeruginosa.
OxyR regulated the expression of two major catalases, KatA and KatB, along with peroxiredoxin, AhpC
Engineering of 2-Cys peroxiredoxin for enhanced stress-tolerance.

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