特許
J-GLOBAL ID:201303017946680026

半導体基板の温度制御のための方法及びその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (10件): 中村 稔 ,  大塚 文昭 ,  熊倉 禎男 ,  宍戸 嘉一 ,  竹内 英人 ,  今城 俊夫 ,  小川 信夫 ,  村社 厚夫 ,  西島 孝喜 ,  箱田 篤
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-270823
公開番号(公開出願番号):特開2001-118835
特許番号:特許第4768906号
出願日: 2000年08月03日
公開日(公表日): 2001年04月27日
請求項(抜粋):
【請求項1】 基板の支持及び温度制御のための装置であって、 基板の側及び第2の側を有する基板支持部材と、 該基板支持部材の第2の側を背にして配置されたセラミックのアイソレータと、 該アイソレータを背にして、該基板支持部材とは反対側に、且つ間隔を置いて配置された外部熱伝達板と、 を備え、 該アイソレータの内径と該基板支持部材の第2の側の表面が、該基板支持部材の基板の側から分離しうる内部容量を規定し、 前記装置が、前記内部容量内に配置された内部熱伝達板をさらに備えている ことを特徴とする装置。
IPC (2件):
H01L 21/3065 ( 200 6.01) ,  H01L 21/205 ( 200 6.01)
FI (2件):
H01L 21/302 101 G ,  H01L 21/205
引用特許:
出願人引用 (7件)
  • 静電チャック付セラミックスヒーター
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-152015   出願人:信越化学工業株式会社
  • サセプター
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-149573   出願人:日本碍子株式会社
  • 枚葉式の熱処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-210973   出願人:東京エレクトロン株式会社
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審査官引用 (8件)
  • 枚葉式の熱処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-210973   出願人:東京エレクトロン株式会社
  • 特開平1-225121
  • 処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-185518   出願人:東京エレクトロン株式会社
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