特許
J-GLOBAL ID:201303017946680026
半導体基板の温度制御のための方法及びその装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (10件):
中村 稔
, 大塚 文昭
, 熊倉 禎男
, 宍戸 嘉一
, 竹内 英人
, 今城 俊夫
, 小川 信夫
, 村社 厚夫
, 西島 孝喜
, 箱田 篤
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-270823
公開番号(公開出願番号):特開2001-118835
特許番号:特許第4768906号
出願日: 2000年08月03日
公開日(公表日): 2001年04月27日
請求項(抜粋):
【請求項1】 基板の支持及び温度制御のための装置であって、
基板の側及び第2の側を有する基板支持部材と、
該基板支持部材の第2の側を背にして配置されたセラミックのアイソレータと、
該アイソレータを背にして、該基板支持部材とは反対側に、且つ間隔を置いて配置された外部熱伝達板と、
を備え、
該アイソレータの内径と該基板支持部材の第2の側の表面が、該基板支持部材の基板の側から分離しうる内部容量を規定し、
前記装置が、前記内部容量内に配置された内部熱伝達板をさらに備えている
ことを特徴とする装置。
IPC (2件):
H01L 21/3065 ( 200 6.01)
, H01L 21/205 ( 200 6.01)
FI (2件):
H01L 21/302 101 G
, H01L 21/205
引用特許:
出願人引用 (7件)
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静電チャック付セラミックスヒーター
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-152015
出願人:信越化学工業株式会社
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サセプター
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-149573
出願人:日本碍子株式会社
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枚葉式の熱処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-210973
出願人:東京エレクトロン株式会社
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特開平1-225121
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処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-185518
出願人:東京エレクトロン株式会社
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差圧CVDチャック
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-263856
出願人:ジーナスインコーポレイテッド
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静電チャックアセンブリ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-179134
出願人:ワトキンズ-ジョンソンカンパニー
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審査官引用 (8件)
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枚葉式の熱処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-210973
出願人:東京エレクトロン株式会社
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特開平1-225121
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処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-185518
出願人:東京エレクトロン株式会社
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差圧CVDチャック
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-263856
出願人:ジーナスインコーポレイテッド
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静電チャックアセンブリ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-179134
出願人:ワトキンズ-ジョンソンカンパニー
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静電チャック付セラミックスヒーター
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-152015
出願人:信越化学工業株式会社
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サセプター
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-149573
出願人:日本碍子株式会社
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特開平1-225121
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