特許
J-GLOBAL ID：201303019672561010

複合半透膜の製造方法

発明者：
西 美詠子

西 美詠子 について

, 
西山 真哉

西山 真哉 について


出願人/特許権者：
日東電工株式会社

日東電工株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人 ユニアス国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-090126
公開番号（公開出願番号）：特開2013-240781
出願日： 2013年04月23日
公開日（公表日）： 2013年12月05日
要約：
【課題】 本発明の目的は、スキン層の欠陥が少なく、高阻止率の複合半透膜を安定的に製造する方法を提供することにある。【解決手段】 本発明は、スキン層を多孔性支持体の表面に形成してなる複合半透膜の製造方法において、スキン層を多孔性支持体の表面に形成する前に、多孔性支持体の表面に付着している異物を除去する異物除去工程を含むことを特徴とする。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
スキン層を多孔性支持体の表面に形成してなる複合半透膜の製造方法において、スキン層を多孔性支持体の表面に形成する前に、多孔性支持体の表面に付着している異物を除去する異物除去工程を含むことを特徴とする複合半透膜の製造方法。
IPC (3件)：
B01D 69/10 ,  B01D 69/12 ,  B01D 71/56
FI (3件)：
B01D69/10 ,  B01D69/12 ,  B01D71/56
Fターム (25件)：
4D006GA03 ,  4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006MA03 ,  4D006MA04 ,  4D006MA06 ,  4D006MB06 ,  4D006MC18 ,  4D006MC29 ,  4D006MC45 ,  4D006MC48 ,  4D006MC56X ,  4D006MC58 ,  4D006MC62 ,  4D006MC63 ,  4D006NA41 ,  4D006NA46 ,  4D006NA49 ,  4D006NA63 ,  4D006PA01 ,  4D006PA02 ,  4D006PB03 ,  4D006PB08 ,  4D006PC02 ,  4D006PC11
引用特許：
審査官引用 (4件)
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