特許
J-GLOBAL ID:201303019834420784
ソイルセメント壁の構築方法及びソイルセメント壁
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
一色国際特許業務法人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-039113
公開番号(公開出願番号):特開2013-174086
出願日: 2012年02月24日
公開日(公表日): 2013年09月05日
要約:
【課題】土壌汚染が認められた区画が存在する敷地において、ソイルセメント壁を、汚染区画を残置したままで、汚染区画と非汚染区画との境界を横切るように施工する場合に、時間とコストの増大を抑えつつ、汚染区画から非汚染区画への汚染の拡散を防止する。【解決手段】土壌汚染が認められた汚染区画102が存在する敷地に汚染区画102と非汚染区画104との境界Lを横切るようにソイルセメント柱列壁10を構築する方法であって、汚染区画102と非汚染区画104との境界Lでは、薬液注入工法等の削孔攪拌しない工法で、ソイルセメント柱列壁10の一部を遮水可能に構成する遮水柱16を構築することを特徴とする。【選択図】図7
請求項(抜粋):
土壌汚染が認められた汚染区画が存在する敷地に前記汚染区画と土壌汚染が認められなかった非汚染区画との境界を横切るようにソイルセメント壁を構築する方法であって、
前記汚染区画と前記非汚染区画との境界では、削孔攪拌せず、若しくは削孔攪拌した土壌を残置しない工法で、ソイルセメント壁の一部を遮水可能に構成する遮水部を構築することを特徴とするソイルセメント壁の構築方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (11件):
2D049EA01
, 2D049EA02
, 2D049FB03
, 2D049FB12
, 2D049FC03
, 2D049GB06
, 2D049GC11
, 2D049GD03
, 2D049GE03
, 2D049GE19
, 2D049GE20
引用特許:
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