特許
J-GLOBAL ID：201303023118436669

透明電極の製造方法、透明電極及びそれを用いた有機電子素子

発明者：
後藤 昌紀

後藤 昌紀 について

, 
松村 智之

松村 智之 について


出願人/特許権者：
コニカミノルタ株式会社

コニカミノルタ株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人光陽国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-026767
公開番号（公開出願番号）：特開2013-164941
出願日： 2012年02月10日
公開日（公表日）： 2013年08月22日
要約：
【課題】基板ダメージを抑制しながら導電性に優れた透明電極を製造する。【解決手段】可撓性の透明基板、保護層および導電性の金属細線パターンを有する透明電極の製造方法が開示されている。当該製造方法は、前記透明基板の一方の面に前記保護層を形成する工程と、前記保護層上に金属ナノ粒子により金属細線パターンを形成する工程と、前記金属細線パターンをフラッシュ光照射により加熱焼成する工程と、を備える。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
可撓性の透明基板、保護層および導電性の金属細線パターンを有する透明電極の製造方法において、 前記透明基板の一方の面に前記保護層を形成する工程と、 前記保護層上に金属ナノ粒子により金属細線パターンを形成する工程と、 前記金属細線パターンをフラッシュ光照射により加熱焼成する工程と、 を備えることを特徴とする透明電極の製造方法。
IPC (6件)：
H05B 33/28 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/02 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/26 ,  H01L 51/42
FI (6件)：
H05B33/28 ,  H05B33/10 ,  H05B33/02 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/26 A ,  H01L31/04 D
Fターム (28件)：
3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC11 ,  3K107CC42 ,  3K107CC45 ,  3K107DD02 ,  3K107DD19 ,  3K107DD22 ,  3K107DD24 ,  3K107DD27 ,  3K107DD29 ,  3K107DD43X ,  3K107DD43Y ,  3K107DD44X ,  3K107DD44Y ,  3K107GG28 ,  5F151AA11 ,  5F151CB27 ,  5F151FA02 ,  5F151FA06 ,  5F151FA07 ,  5F151FA13 ,  5F151FA15 ,  5F151FA18 ,  5F151FA24 ,  5F151GA03 ,  5F151GA05 ,  5F151GA06
引用特許：
出願人引用 (8件)
全件表示
審査官引用 (2件)

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