特許
J-GLOBAL ID：201303023765933933

レジスト用化合物およびレジスト組成物

発明者：
越後 雅敏

越後 雅敏 について

, 
小黒 大

小黒 大 について


出願人/特許権者：
三菱瓦斯化学株式会社

三菱瓦斯化学株式会社 について


代理人 (2件)： 大谷 保 ,  東平 正道
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-006156
公開番号（公開出願番号）：特開2012-093784
特許番号：特許第5218682号
出願日： 2012年01月16日
公開日（公表日）： 2012年05月17日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 下記式(3)で表される化合物から選ばれるレジスト化合物(A)を一種以上含むレジスト組成物。 (式(3)中、 R2は、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アシル基、アルコキシカルボニルオキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、シアノ基、およびニトロ基からなる群から選ばれる基であり; R4は、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基であり; R8は、下記式 (式中、 R3は、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数3〜12のシクロアルキル基であり; q3は0〜3の整数であり; 複数個のR3、q3は、各々同一でも異なっていても良い)で表される基、あるいはビフェニル構造、ターフェニル構造、ナフタレン構造、フェナントレン構造、またはピレン構造を有する炭素数10〜30の三価の基であり; または、2個のR4およびR8が結合し、フルオレン構造、フェニルフルオレン構造、ジフェニルフルオレン構造、アセナフテン構造、1-ケトアセナフテン構造、9-ケト-9,10-ジヒドロフェナントレン、またはベンゾフェノン構造を有する炭素数10〜30の6価の基であり; Aは、アリルオキシ基、アクリロイルオキシ基、グリシジルオキシ基、およびハロゲン化メチルオキシ基から選ばれる基であり、Aのうち少なくとも一つはアリルオキシ基、アクリロイルオキシ基、グリシジルオキシ基、およびハロゲン化メチルオキシ基から選ばれる基であり; m4、n4、j4、k4、x4、y4は0〜3の整数であり; m5、n5、j5、k5、x5、y5は0〜4の整数であり; 1≦m4+m5≦5、1≦n4+n5≦5、1≦j4+j5≦5、1≦k4+k5≦5、1≦x4+x5≦5、1≦y4+y5≦5、1≦m4+n4+j4+k4+x4+y4≦18を満たし、複数個のR2は同一でも異なっていても良い)
IPC (7件)：
G03F 7/038 ( 200 6.01) ,  G03F 7/027 ( 200 6.01) ,  G03F 7/004 ( 200 6.01) ,  C07D 303/27 ( 200 6.01) ,  C07C 43/205 ( 200 6.01) ,  C07C 69/54 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)
FI (8件)：
G03F 7/038 505 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/038 503 ,  G03F 7/004 531 ,  C07D 303/27 CSP ,  C07C 43/205 C ,  C07C 69/54 B ,  H01L 21/30 502 R
引用特許：
審査官引用 (4件)
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