特許

J-GLOBAL ID：201303023773406217

透明導電膜作成方法および透明導電膜素材

発明者： 山田 容士 ,  一柳 成治 ,  久保 衆伍 ,  北川 裕之 ,  舩木 修平
出願人/特許権者： 国立大学法人島根大学
代理人 (1件)： 田邊 義博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-166506
公開番号（公開出願番号）：特開2013-030399
出願日： 2011年07月29日
公開日（公表日）： 2013年02月07日
要約：

【課題】既知のNTO膜より低抵抗な透明伝導膜の製造方法および透明電動膜素材を提供すること。【解決手段】ガラス基板等に導電性透明酸化亜鉛膜とNTO膜とをこの順に形成したのちにアニール処理することを特徴とする透明導電膜の作成方法である。導電性透明酸化亜鉛は、GZOとすることができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

透明基板に導電性透明酸化亜鉛膜とNTO膜とをこの順に形成したのちにアニール処理することを特徴とする透明導電膜の作成方法。

IPC (4件)：

H01B 13/00 ,  H01B 5/14 ,  B32B 9/00 ,  C23C 14/06

FI (4件)：

H01B13/00 503B ,  H01B5/14 A ,  B32B9/00 A ,  C23C14/06 P

Fターム (30件)：

4F100AA18B ,  4F100AA21C ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100EJ42 ,  4F100GB41 ,  4F100JG01 ,  4F100JG01B ,  4F100JG01C ,  4F100JN01 ,  4F100JN01A ,  4F100JN01B ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA48 ,  4K029BA49 ,  4K029BB02 ,  4K029BC09 ,  4K029CA05 ,  4K029DC05 ,  4K029DC35 ,  4K029GA01 ,  5G307FA01 ,  5G307FB01 ,  5G307FC10 ,  5G323BA02 ,  5G323BB05 ,  5G323BC03

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 光電変換素子および光検出素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-248503   出願人：住友化学株式会社