特許

J-GLOBAL ID：201303024349596720

酸化処理システム

発明者： 釜瀬 幸広 ,  早矢仕 文男
出願人/特許権者： 株式会社IHIシバウラ
代理人 (1件)： 矢野 寿一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-022373
公開番号（公開出願番号）：特開2013-158701
出願日： 2012年02月03日
公開日（公表日）： 2013年08月19日
要約：

【課題】処理室内に供給されない過酸化水素ガスが生じることを防止することができる酸化処理システムを提供することを課題とする。【解決手段】処理室2と、オゾンガスを発生させるオゾンガス発生装置3と、過酸化水素ガスを発生させる過酸化水素ガス発生装置4と、を具備し、過酸化水素ガスとオゾンガスとを用いて処理室2内の処理対象表面の酸化処理を行う、酸化処理システム1であって、過酸化水素ガス発生装置4が、処理室2内に配置される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

処理室と、オゾンガスを発生させるオゾンガス発生装置と、過酸化水素ガスを発生させる過酸化水素ガス発生装置と、を具備し、前記過酸化水素ガスと前記オゾンガスとを用いて前記処理室内の処理対象表面の酸化処理を行う、酸化処理システムであって、 前記過酸化水素ガス発生装置が、前記処理室内に配置される、 酸化処理システム。

IPC (1件)：

B01J 19/00

FI (1件)：

B01J19/00 D

Fターム (15件)：

4C058AA12 ,  4C058AA23 ,  4C058AA30 ,  4C058BB07 ,  4C058EE26 ,  4C058JJ14 ,  4C058JJ16 ,  4G075AA05 ,  4G075AA07 ,  4G075AA30 ,  4G075BA06 ,  4G075BD14 ,  4G075CA57 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01

引用特許：

審査官引用 (2件)

• オゾン水殺菌水槽の気散オゾンの利用方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-211488   出願人：石川島播磨重工業株式会社
• オゾン殺菌装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-114188   出願人：株式会社ゼクセル