特許
J-GLOBAL ID：201303024381075006
低反射膜付き物品の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-020015
公開番号（公開出願番号）：特開2013-160799
出願日： 2012年02月01日
公開日（公表日）： 2013年08月19日
要約：
【課題】耐摩耗性に優れた低反射膜を基材上に有する物品を製造できる方法を提供する。【解決手段】中空微粒子6間にバインダ7が充填された低反射膜3を基材2上に有する低反射膜付き物品1を製造する方法であって、(a)中空微粒子6および分散媒8を含み、バインダおよびバインダ前駆体を含まない第1の塗料組成物20を基材2に塗布し、乾燥することによって中空微粒子層9を形成する工程と、(b)バインダまたはバインダ前駆体、および溶媒または分散媒を含み、中空微粒子を含まない第2の塗料組成物21を中空微粒子層9に塗布し、中空微粒子層9に含浸させ、焼成または乾燥することによって低反射膜3を形成する工程とを有する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
低反射膜を基材上に有する物品を製造する方法であって、
(a)中空微粒子および分散媒を含み、バインダおよびバインダ前駆体を含まない第1の塗料組成物を基材に塗布し、乾燥することによって中空微粒子層を形成する工程と、
(b)バインダまたはバインダ前駆体、および溶媒または分散媒を含み、中空微粒子を含まない第2の塗料組成物を前記中空微粒子層に塗布し、前記中空微粒子層に含浸させ、焼成または乾燥することによって低反射膜を形成する工程と
を有する、低反射膜付き物品の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (25件)：
2K009AA02
, 2K009BB02
, 2K009CC09
, 2K009CC24
, 2K009CC42
, 2K009DD02
, 4F100AA20
, 4F100AG00A
, 4F100AK01B
, 4F100AK52B
, 4F100AR00B
, 4F100AT00A
, 4F100BA02
, 4F100DE01B
, 4F100EH46
, 4F100EJ48
, 4F100EJ82
, 4F100EJ82B
, 4F100EJ85
, 4F100EJ86
, 4F100GB41
, 4F100JL06
, 4F100JN06
, 4F100JN06B
, 4F100YY00B
