特許

J-GLOBAL ID：201303025223171940

静電放電特性を備えるガスフィードスルー

発明者： クオ-シ リュー ,  アーネスト チャン ,  プラサンス エー. クマール ,  ジョン ファーグソン ,  マイケル ジー. フリービー ,  アシシュ ヴィラ シュロトリヤ ,  ウイリアム ニクソン テイラー, ジュニア
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (3件)： 園田 吉隆 ,  小林 義教 ,  沖本 一暁
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-112447
公開番号（公開出願番号）：特開2000-357664
特許番号：特許第4999220号
出願日： 2000年04月13日
公開日（公表日）： 2000年12月26日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 ガスラインを通って供給されるガスへのエネルギー移転を阻止するための装置であって: 平方当たり106〜109オームの表面抵抗率を有し、プラスチックと混合されるカーボンブラックまたは粉末金属を含む複合材料で作られる静電気消散材料からなるガスフィードスルーを備え、前記ガスフィードスルーは、電気的にエネルギーを与えられた部材に突接する第1端および接地された部材に突接する第2端を有し、前記ガスフィードスルーは、それを貫通するガスラインを格納するために、その長さに沿うボイドを内部に画成することを特徴とする装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ( 200 6.01) ,  H01L 21/285 ( 200 6.01) ,  C23C 16/455 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/285 S ,  C23C 16/455

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 半導体装置およびその作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-171884   出願人：株式会社半導体エネルギー研究所