特許
J-GLOBAL ID：201303026480368751

気体処理装置用保持材、気体処理装置及びこれらに関する方法

発明者：
真壁 弘

真壁 弘 について

, 
中村 大毅

中村 大毅 について

, 
佐藤 絢也

佐藤 絢也 について

, 
阿部 勇美

阿部 勇美 について

, 
中島 章裕

中島 章裕 について


出願人/特許権者：
ニチアス株式会社

ニチアス株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人はるか国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-091710
公開番号（公開出願番号）：特開2013-221414
出願日： 2012年04月13日
公開日（公表日）： 2013年10月28日
要約：
【課題】保持材とケーシングとの摩擦抵抗の適切な制御を実現する気体処理装置用保持材、気体処理装置及びこれらに関する方法を提供する。【解決手段】本発明に係る気体処理方法は、処理構造体(20)と、前記処理構造体を収容する金属製のケーシング(30)と、前記処理構造体と前記ケーシングとの間に配置される無機繊維製の保持材(10)と、を備えた気体処理装置を使用して気体を処理する方法であって、前記保持材と前記ケーシングとの間に、有機高分子(40)を、前記気体の処理中に前記保持材の外表面(11)及び前記ケーシングの内表面(31)と接するように配置し、前記ケーシングの温度が、前記有機高分子の軟化温度以上、前記有機高分子の分解温度未満である条件で、前記気体を処理する。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
処理構造体と、 前記処理構造体を収容する金属製のケーシングと、 前記処理構造体と前記ケーシングとの間に配置される無機繊維製の保持材と、 を備えた気体処理装置を使用して気体を処理する方法であって、 前記保持材と前記ケーシングとの間に、有機高分子を、前記気体の処理中に前記保持材の外表面及び前記ケーシングの内表面と接するように配置し、 前記ケーシングの温度が、前記有機高分子の軟化温度以上、前記有機高分子の分解温度未満である条件で、前記気体を処理する ことを特徴とする気体処理方法。
IPC (3件)：
F01N 3/28 ,  B01J 33/00 ,  B01D 53/86
FI (4件)：
F01N3/28 311P ,  F01N3/28 ,  B01J33/00 G ,  B01D53/36 C
Fターム (18件)：
3G091AA02 ,  3G091AB01 ,  3G091AB13 ,  3G091BA09 ,  3G091BA10 ,  3G091BA39 ,  3G091EA17 ,  3G091HA27 ,  4D048AA21 ,  4D048BB02 ,  4D048BB18 ,  4D048CA01 ,  4G169AA01 ,  4G169AA15 ,  4G169BA13B ,  4G169CA03 ,  4G169DA06 ,  4G169EA19
引用特許：
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM