特許

J-GLOBAL ID：201303026821465793

極端紫外光源装置及びそのターゲット供給システム

発明者： 石原 孝信 ,  渡辺 幸雄
出願人/特許権者： ギガフォトン株式会社
代理人 (3件)： 宇都宮 正明 ,  渡部 温 ,  柳瀬 睦肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-101398
公開番号（公開出願番号）：特開2013-191577
出願日： 2013年05月13日
公開日（公表日）： 2013年09月26日
要約：

【課題】LPP式極端紫外光(EUV)光源装置において長期の連続運転を可能にするため、高温に晒されるバルブを使わずに、ターゲット物質を連続して供給することができるターゲット供給システムを提供する。【解決手段】高圧溶融槽21と液滴発生器22,23とターゲット物質貯槽30と移送機構33を備えたターゲット供給システムにおいて、移送機構33は、高圧溶融槽の溶融ターゲット物質26が不足するとターゲット物質貯槽から粒状のターゲット物質35を高圧溶融槽に移送し、高圧溶融槽が、粒状固体のターゲット物質を溶融して液滴状のターゲット13として供給する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

ターゲット物質にレーザ光を照射することによりターゲット物質をプラズマ化して極端紫外光を発生する極端紫外光源装置に用いるターゲット供給システムであって、 粒状のターゲット物質を溶融して液滴状のターゲットとして供給する、高圧溶融槽と液滴発生器を備えたターゲット供給装置と、 該ターゲット供給装置に前記粒状のターゲット物質を供給する、ターゲット物質貯槽と移送機構を備えたターゲット物質補給装置と、 該移送機構を調整して前記高圧溶融槽のレベルに応じて前記ターゲット物質貯槽から粒状のターゲット物質を前記高圧溶融槽に補充するレベル制御装置と、 を備えるターゲット供給システム。

IPC (2件)：

H05G 2/00 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H05G1/00 K ,  H01L21/30 531S

Fターム (9件)：

4C092AA06 ,  4C092AA15 ,  4C092AA17 ,  4C092AB12 ,  4C092AC09 ,  4C092BD05 ,  5F146GA21 ,  5F146GC12 ,  5F146GC14

引用特許：

審査官引用 (2件)

• EUV光源ターゲット材料を処理する方法及び装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2007-557062   出願人：サイマーインコーポレイテッド
• 内視鏡用の液体貯溜装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-305881   出願人：ペンタックス株式会社