特許
J-GLOBAL ID：201303027713277235

基板処理方法および基板処理装置

発明者：
高橋 朋宏

高橋 朋宏 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (2件)： 吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-028346
公開番号（公開出願番号）：特開2013-165217
出願日： 2012年02月13日
公開日（公表日）： 2013年08月22日
要約：
【課題】浸漬処理槽に所望のシリコン濃度のリン酸水溶液の供給することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。【解決手段】リン酸水溶液を貯留した浸漬処理槽10にて基板Wのエッチング処理が進行する。浸漬処理槽10に対しては循環ライン20によってリン酸水溶液の循環が行われている。浸漬処理槽10から排出された使用済みの高シリコン濃度のリン酸水溶液の一部は循環ライン20から一旦貯留タンク30に貯留される。その使用済みのリン酸水溶液と低シリコンリン酸タンク40に貯留されている低シリコン濃度の再生リン酸水溶液とが混合タンク50に投入され、シリコン濃度が適正範囲となるリン酸水溶液が調合される。そして、全液交換時に混合タンク50から調合済みのリン酸水溶液が浸漬処理槽10に投入される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
シリコン酸化膜およびシリコン窒化膜が形成された基板をリン酸水溶液中に浸漬してシリコン窒化膜のエッチング処理を行う基板処理方法であって、 リン酸水溶液中に前記基板を浸漬してシリコン窒化膜のエッチング処理を進行させる浸漬処理槽から排出された使用済みのリン酸水溶液を貯留タンクに貯留する貯留工程と、 前記貯留タンクに貯留された使用済みのリン酸水溶液のシリコン濃度を測定する測定工程と、 前記測定工程での測定結果に基づいて、前記貯留タンクに貯留された使用済みのリン酸水溶液とリン酸新液または再生リン酸とを混合して所定のシリコン濃度のリン酸水溶液を調合する混合工程と、 前記混合工程にて調合されたリン酸水溶液を前記浸漬処理槽に投入する投入工程と、 を備えることを特徴とする基板処理方法。
IPC (1件)：
H01L 21/306
FI (2件)：
H01L21/306 E ,  H01L21/306 J
Fターム (8件)：
5F043AA35 ,  5F043BB23 ,  5F043EE01 ,  5F043EE23 ,  5F043EE28 ,  5F043EE29 ,  5F043EE31 ,  5F043EE33
引用特許：
審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM