特許
J-GLOBAL ID：201303030487432614

偏光板の製造方法、偏光板及び液晶表示装置

発明者：
玉川 美典

玉川 美典 について

, 
久保 伸夫

久保 伸夫 について


出願人/特許権者：
コニカミノルタ株式会社

コニカミノルタ株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人光陽国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-054481
公開番号（公開出願番号）：特開2013-190464
出願日： 2012年03月12日
公開日（公表日）： 2013年09月26日
要約：
【課題】偏光度及び透過率が高く、また、偏光度の耐久性に優れた偏光板の製造方法、偏光板及び液晶表示装置を提供する。【解決手段】基材層と親水性高分子層との積層体が延伸処理され、かつ、親水性高分子層に少なくとも二色性物質が吸着された延伸積層体を有する偏光板の製造方法であって、基材層に親水性高分子層を積層して積層体を形成する積層工程と、積層体の親水性高分子層側をラビング処理するラビング処理工程と、ラビング処理工程後に、親水性高分子層を少なくとも二色性物質で染色する染色工程と、積層工程後でラビング処理工程の前、または、ラビング処理工程後で染色工程の前、の少なくともいずれか一方で、積層体を延伸処理する延伸工程と、を備える。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
基材層と親水性高分子層との積層体が延伸処理され、かつ、前記親水性高分子層に少なくとも二色性物質が吸着された延伸積層体を有する偏光板の製造方法であって、 前記基材層に前記親水性高分子層を積層して前記積層体を形成する積層工程と、 前記積層体の前記親水性高分子層側をラビング処理するラビング処理工程と、 前記ラビング処理工程後に、前記親水性高分子層を少なくとも二色性物質で染色する染色工程と、 前記積層工程後で前記ラビング処理工程の前、または、前記ラビング処理工程後で前記染色工程の前、の少なくともいずれか一方で、前記積層体を延伸処理する延伸工程と、を備えることを特徴とする偏光板の製造方法。
IPC (2件)：
G02B 5/30 ,  G02F 1/133
FI (2件)：
G02B5/30 ,  G02F1/1335 510
Fターム (18件)：
2H149AA07 ,  2H149AB12 ,  2H149AB13 ,  2H149BA02 ,  2H149BA14 ,  2H149BB07 ,  2H149BB10 ,  2H149BB12 ,  2H149FA02Z ,  2H149FA03W ,  2H149FD02 ,  2H191FA22 ,  2H191FB05 ,  2H191FC05 ,  2H191FC08 ,  2H191FC09 ,  2H191HA15 ,  2H191LA40
引用特許：
審査官引用 (4件)
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