特許
J-GLOBAL ID：201303034819399140
転写装置および転写方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (5件)：
三好 秀和
, 岩▲崎▼ 幸邦
, 高橋 俊一
, 伊藤 正和
, 高松 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-108726
公開番号（公開出願番号）：特開2013-233761
出願日： 2012年05月10日
公開日（公表日）： 2013年11月21日
要約：
【課題】一対のローラで基材を挟み込みローラに形成されている転写パターンを基材に転写する転写装置において、挟み込みの荷重を安定させて基材への転写パターンの転写を効率良く行う。【解決手段】転写パターンが形成されている第1のローラ3と、第2のローラ5と、各ローラ3,5間の距離を調整するローラ間距離調整部2と、各ローラ3,5での基材11の挟み込み力をほぼ一定にするようにローラ間距離調整部2で各ローラ3,5間の距離を調整しつつ各ローラ3,5を低速回転し基材11に転写しているときにおける各ローラ3,5間の距離の変化のパターンを記憶しているメモリ29と、各ローラ3,5が高速回転して基材11に転写するときに各ローラ3,5での基材11の挟み込み力をほぼ一定にすべく、メモリ29に記憶されている変化のパターンの位相を進めた指令値をローラ間距離調整部2に送る制御部27とを有する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
外周に転写パターンが形成されており、中心軸を回転中心にして回転する第1のローラと、
前記第1のローラの中心軸と平行な中心軸を回転中心にし、前記第1のローラと同期して回転する第2のローラと、
前記各ローラで基材を挟み込み前記各ローラの回転によって前記基材をこの長手方向に移動し前記基材に前記転写パターンを転写するために、前記各ローラ間の距離を調整するローラ間距離調整部と、
前記各ローラでの前記基材の挟み込み力をほぼ一定にするように、前記ローラ間距離調整部で前記各ローラ間の距離を調整しつつ前記各ローラを低速回転し前記基材に前記転写パターンを転写しているときにおける前記各ローラ間の距離の変化のパターンを記憶しているメモリと、
前記各ローラが高速回転して前記基材に前記転写パターンを転写するときに前記各ローラでの前記基材の挟み込み力をほぼ一定にすべく、前記メモリに記憶されている変化のパターンの位相を進めた指令値を前記ローラ間距離調整部に送る制御部と、
を有することを特徴とする転写装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (29件)：
4F202AC03
, 4F202AF01
, 4F202AG01
, 4F202AG05
, 4F202AM32
, 4F202AP06
, 4F202AP08
, 4F202AR07
, 4F202CA19
, 4F202CB02
, 4F202CB29
, 4F202CC07
, 4F202CD23
, 4F202CR10
, 4F209AC03
, 4F209AF01
, 4F209AG01
, 4F209AG05
, 4F209AM32
, 4F209AP06
, 4F209AP08
, 4F209AR07
, 4F209PA04
, 4F209PB02
, 4F209PC01
, 4F209PC05
, 4F209PN06
, 4F209PN13
, 4F209PQ01
