特許
J-GLOBAL ID：201303035943783671
極端紫外光生成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
宇都宮 正明
, 渡部 温
, 柳瀬 睦肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-001052
公開番号（公開出願番号）：特開2013-069655
出願日： 2012年01月06日
公開日（公表日）： 2013年04月18日
要約：
【課題】極端紫外光生成装置において、EUV集光ミラーによってEUV光が集光される位置のずれを低減する。【解決手段】この極端紫外光生成装置は、ターゲット物質に少なくとも1つのレーザ光を照射してターゲット物質をプラズマ化することにより極端紫外光を生成する極端紫外光生成装置であって、ターゲット物質に照射される少なくとも1つのレーザ光が入射する開口部を有するチャンバと、チャンバが搭載された基準部材と、チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給装置と、ターゲット供給装置によって所定の領域に供給されるターゲット物質に少なくとも1つのレーザ光を集光してターゲット物質をプラズマ化するレーザ光集光光学系と、基準部材に固定され、プラズマから放射される極端紫外光を反射して集光する集光ミラーとを備えてもよい。【選択図】図2B
請求項（抜粋）：
ターゲット物質に少なくとも1つのレーザ光を照射して前記ターゲット物質をプラズマ化することにより極端紫外光を生成するための装置であって、
前記ターゲット物質に照射される前記少なくとも1つのレーザ光を導入するための開口部が設けられたチャンバと、
前記チャンバが搭載された基準部材と、
前記チャンバ内の所定の領域に前記ターゲット物質を供給するためのターゲット供給装置と、
前記ターゲット供給装置によって前記所定の領域に供給される前記ターゲット物質に前記少なくとも1つのレーザ光を集光するためのレーザ光集光光学系と、
前記基準部材に固定され、プラズマ化した前記ターゲット物質から放射される極端紫外光を集光するための集光ミラーと、
を備える装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H05G1/00 K
, H01L21/30 531S
4C092AA06
, 4C092AA15
, 4C092AB19
, 4C092AC09
, 4C092BD01
, 5F146GA21
, 5F146GA28
, 5F146GC12
出願人引用 (2件)
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極端紫外光生成システム
公報種別：公開公報
出願番号：特願2011-192861
出願人：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
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極端紫外光源装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2005-276163
出願人：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
審査官引用 (2件)
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極端紫外光生成システム
公報種別：公開公報
出願番号：特願2011-192861
出願人：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
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極端紫外光源装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2005-276163
出願人：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
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