特許

J-GLOBAL ID：201303037545813997

カーボンナノチューブ及び水素の同時製造方法、並びに、カーボンナノチューブ及び水素の同時製造装置

発明者： 野田 優 ,  金 東榮 ,  大沢 利男 ,  杉目 恒志 ,  長谷川 馨 ,  羽場 英介
出願人/特許権者： 国立大学法人 東京大学 ,  日立化成工業株式会社
代理人 (3件)： 長谷川 芳樹 ,  清水 義憲 ,  平野 裕之
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2010065514
公開番号（公開出願番号）：WO2011-030821
出願日： 2010年09月09日
公開日（公表日）： 2011年03月17日
要約：

本発明のカーボンナノチューブ及び水素の同時製造方法は、炭素原子及び水素原子を含有し加熱状態で分解される炭素源と、該炭素源からカーボンナノチューブ及びH2を生成するための触媒と、を使用して、反応器中に配置された加熱状態の支持体上に上記カーボンナノチューブを合成し、同時に上記炭素源から上記H2を合成するカーボンナノチューブ及び水素の同時製造方法であって、上記炭素源を含む原料ガスを、上記触媒を担持させた上記支持体上に流通させることで、上記支持体上に上記カーボンナノチューブを合成し、同時に気流中に上記H2を合成する合成工程を有することを特徴とする方法である。

請求項（抜粋）：

炭素原子及び水素原子を含有し加熱状態で分解される炭素源と、該炭素源からカーボンナノチューブ及びH2を生成するための触媒と、を使用して、反応器中に配置された加熱状態の支持体上に前記カーボンナノチューブを合成し、同時に前記炭素源から前記H2を合成するカーボンナノチューブ及び水素の同時製造方法であって、 前記炭素源を含む原料ガスを、前記触媒を担持させた前記支持体上に流通させることで、前記支持体上に前記カーボンナノチューブを合成し、同時に気流中に前記H2を合成する合成工程を有することを特徴とする、カーボンナノチューブ及び水素の同時製造方法。

IPC (5件)：

C01B 31/02 ,  B01J 37/08 ,  C01B 3/26 ,  C01B 3/30 ,  B01J 23/745

FI (5件)：

C01B31/02 101F ,  B01J37/08 ,  C01B3/26 ,  C01B3/30 ,  B01J23/74 301M

Fターム (69件)：

4G140DA03 ,  4G140DB02 ,  4G140DB05 ,  4G140DC01 ,  4G140DC02 ,  4G140DC05 ,  4G140DC07 ,  4G146AA11 ,  4G146AA12 ,  4G146AC03B ,  4G146AD23 ,  4G146AD24 ,  4G146AD25 ,  4G146AD29 ,  4G146AD30 ,  4G146AD32 ,  4G146BA12 ,  4G146BA48 ,  4G146BB22 ,  4G146BC08 ,  4G146BC23 ,  4G146BC33B ,  4G146BC42 ,  4G146BC43 ,  4G146BC44 ,  4G146CB29 ,  4G146DA03 ,  4G146DA13 ,  4G146DA25 ,  4G146DA40 ,  4G146DA46 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169AA09 ,  4G169BA01B ,  4G169BA17 ,  4G169BC10A ,  4G169BC16A ,  4G169BC33A ,  4G169BC35A ,  4G169BC50A ,  4G169BC51A ,  4G169BC54A ,  4G169BC56A ,  4G169BC57A ,  4G169BC62A ,  4G169BC65A ,  4G169BC66B ,  4G169BD04A ,  4G169BD05A ,  4G169BD06A ,  4G169CB81 ,  4G169DA08 ,  4G169EA01X ,  4G169EA02X ,  4G169EA03X ,  4G169EA06 ,  4G169EA08 ,  4G169EA11 ,  4G169EA18 ,  4G169FA01 ,  4G169FA03 ,  4G169FB02 ,  4G169FB03 ,  4G169FB14 ,  4G169FB29 ,  4G169FB30 ,  4G169FB57 ,  4G169FB77