ドーズ量制御が可能な複数の光路を備えるレーザビーム調整システム

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：稲葉良幸 , 大貫敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-273613
公開番号（公開出願番号）：特開2013-061677
出願日： 2012年12月14日
公開日（公表日）： 2013年04月04日
要約：

【課題】放射が調整される少なくとも3つの光路を備える放射ビーム調整システムを提供する。【解決手段】パルス放射ビームを調整する放射ビーム調整システムは、少なくとも第1、第2及び第3の光路に沿ってパルス放射ビームを分割する放射ビーム分割器と、単一の出力パルス放射ビームを形成するために、少なくとも第1、第2及び第3の光路からの放射パルスを再結合する放射ビームコンバイナと、第1の光路に沿って伝搬する放射パルスに合わせて構成された放射パルストリマと、を備え、放射パルストリマが、単一の出力パルス放射ビームの総エネルギー量が実質的に所定のレベルになるように、第1の光路内で前記放射パルスをトリミング処理し、第1、第2及び第3の光路の光路長は、放射ビーム分割器と放射ビームコンバイナとで異なっている。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

リソグラフィ装置で使用するパルス放射ビームを調整する放射ビーム調整システムであって、少なくとも第1、第2及び第3の光路に沿ってパルス放射ビームを分割する放射ビーム分割器と、単一の出力パルス放射ビームを形成するために、前記少なくとも第1、第2及び第3の光路からの放射パルスを再結合する放射ビームコンバイナと、前記第1の光路に沿って伝搬する前記放射パルスに合わせて構成された放射パルストリマと、を備え、前記放射パルストリマが、前記単一の出力パルス放射ビームの総エネルギー量が実質的に所定のレベルになるように、前記第1の光路内で前記放射パルスをトリミング処理し、前記第1、第2及び第3の光路の光路長が、前記放射ビーム分割器と前記放射ビームコンバイナとで異なる放射ビーム調整システム。

IPC (3件)：

G03F 7/20 , H01L 21/027 , G02B 3/00

FI (5件)：

G03F7/20 501 , H01L21/30 515D , H01L21/30 527 , H01L21/30 529 , G02B3/00 A

Fターム (32件)：

2H097AA03 , 2H097AB07 , 2H097CA03 , 2H097CA06 , 2H097CA08 , 2H097CA12 , 2H097CA13 , 2H097CA14 , 2H097CA15 , 2H097CA17 , 2H097CA19 , 2H097GB01 , 2H097GB02 , 2H097GB03 , 2H097JA02 , 2H097LA10 , 2H097LA11 , 2H097LA17 , 5F146BA05 , 5F146BA07 , 5F146CA01 , 5F146CA04 , 5F146CA05 , 5F146CA08 , 5F146CB07 , 5F146CB15 , 5F146CB35 , 5F146CB42 , 5F146GA03 , 5F146GA21 , 5F146GB09 , 5F146GC05

引用特許：

出願人引用 (6件)

特開昭63-010149
パルスエネルギートリマを備えるパルスレーザ
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-205275 出願人：サイマーインコーポレイテッド
空間光変調器を利用したパターン形成システム
公報種別：公表公報出願番号：特願2001-576541 出願人：マイクロニックレーザーシステムズアクチボラゲット

全件表示

前のページに戻る