極端紫外光源装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (3件)：宇都宮正明 , 渡部温 , 柳瀬睦肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-039811
公開番号（公開出願番号）：特開2008-204815
出願日： 2007年02月20日
公開日（公表日）： 2008年09月04日
要約：

【課題】ほぼ均一な強度で所望のパルス幅を実現できるドライバレーザを用いて、効率的にEUV光を得ることができる極端紫外光源装置を提供する。【解決手段】この極端紫外光源装置は、ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生するレーザ生成プラズマ型極端紫外光源装置であって、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、チャンバ内の所定の位置に液体又は固体の金属ターゲットを供給するターゲット供給手段と、互いに異なる遅延を伴う複数のパルスレーザビームを合成して強度が略均一の単一パルスレーザビーム又はパルス列レーザビームを生成し、ターゲット供給手段によって供給されるターゲットに該レーザビームを照射することによりプラズマを生成するレーザビーム生成部と、プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射するコレクタミラーとを具備する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生するレーザ生成プラズマ型極端紫外光源装置であって、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、前記チャンバ内の所定の位置に液体又は固体の金属ターゲットを供給するターゲット供給手段と、互いに異なる遅延を伴う複数のパルスレーザビームを合成して強度が略均一の単一パルスレーザビーム又はパルス列レーザビームを生成し、前記ターゲット供給手段によって供給されるターゲットに該レーザビームを照射することによりプラズマを生成するレーザビーム生成部と、前記プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射するコレクタミラーと、を具備する極端紫外線光源装置。

IPC (4件)：

H05G 2/00 , H01L 21/027 , G03F 7/20 , G21K 5/08

FI (4件)：

H05G1/00 K , H01L21/30 531S , G03F7/20 521 , G21K5/08 X

Fターム (5件)：

4C092AA06 , 4C092AA17 , 4C092AB21 , 4C092AC09 , 5F046GC03

引用特許：

出願人引用 (1件)

パルス幅伸長光学系および該光学系を備えた露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-049777 出願人：株式会社ニコン

審査官引用 (9件)

元素分析装置および元素分析方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-366333 出願人：東京電力株式会社, 株式会社東芝
X線発生装置およびその発生方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-015751 出願人：日本電信電話株式会社
ポリシリコン膜の形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-181252 出願人：三洋エプソンイメージングデバイス株式会社

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