特許
J-GLOBAL ID：201303037759601938

ジメチルエーテルまたはメタノールを原料とする低級炭化水素合成用カルシウム化合物含有ゼオライト触媒の調製方法

発明者：
村田 千津

村田 千津 について

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伊藤 浩文

伊藤 浩文 について

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本田 一規

本田 一規 について

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沖田 充司

沖田 充司 について


出願人/特許権者：
日揮株式会社

日揮株式会社 について


代理人 (5件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  鈴木 三義 ,  村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-237890
公開番号（公開出願番号）：特開2013-031847
出願日： 2012年10月29日
公開日（公表日）： 2013年02月14日
要約：
【課題】ゼオライト格子内の4配位アルミニウムの脱離を起こし難いカルシウム化合物含有ゼオライト触媒を、簡易で安価に調整可能なジメチルエーテルまたはメタノールを原料とする低級炭化水素合成用カルシウム化合物含有ゼオライト触媒の調製方法を提供する。【解決手段】本発明のジメチルエーテルまたはメタノールを原料とする低級炭化水素合成用カルシウム化合物含有ゼオライト触媒の調製方法は、混合・混練工程と、乾燥・焼成工程と、第一〜第三成分を含む複合体の水蒸気処理工程と、を有し、水蒸気処理工程において、水蒸気分圧と水蒸気処理時間を掛け合わせた値で示される水蒸気処理の程度(a.u.)が1.92〜16.8となるように水蒸気処理を施すことを特徴とする。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
少なくとも第一成分、第二成分および第三成分からなる構成物に極性溶媒を加えて混合する混合・混練工程と、 該混合・混練工程にて得られた混合体を乾燥、焼成することにより複合体を調製する乾燥・焼成工程と、 前記乾燥・焼成工程にて得られた複合体を水蒸気もしくは水蒸気を生成する反応雰囲気に接触させる水蒸気処理工程と、を有し、 前記水蒸気処理工程において、水蒸気分圧と水蒸気処理時間を掛け合わせた値で示される水蒸気処理の程度(a.u.)が1.92〜16.8となるように水蒸気処理を施し、 前記第一成分はプロトン型ゼオライトおよび/またはアンモニウム型ゼオライト、前記第二成分はカルシウム化合物、前記第三成分はアルミニウムの酸化物および/または水酸化物、シリコンの酸化物および/または水酸化物、粘土の群から選択された1種または2種以上であり、 前記第一成分のSi/Alモル比を10以上、300以下、前記第一成分量に対する前記第二成分の含有率はカルシウムに換算して0.3質量%以上、10質量%未満、前記第一成分量に対する前記第三成分の含有率を15質量%以上、200質量%以下とすることを特徴とするジメチルエーテルまたはメタノールを原料とする低級炭化水素合成用カルシウム化合物含有ゼオライト触媒の調製方法。
IPC (3件)：
B01J 37/10 ,  B01J 29/40 ,  C10G 3/00
FI (3件)：
B01J37/10 ,  B01J29/40 M ,  C10G3/00 B
Fターム (42件)：
4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA01B ,  4G169BA07A ,  4G169BA07B ,  4G169BC09A ,  4G169BC09B ,  4G169CC24 ,  4G169DA06 ,  4G169EA02Y ,  4G169FA01 ,  4G169FA02 ,  4G169FB06 ,  4G169FB30 ,  4G169FB65 ,  4G169ZA10A ,  4G169ZA10B ,  4G169ZC04 ,  4G169ZD03 ,  4G169ZD06 ,  4G169ZE01 ,  4H129AA06 ,  4H129BA10 ,  4H129BB06 ,  4H129BC42 ,  4H129KA14 ,  4H129KB03 ,  4H129KB05 ,  4H129KB06 ,  4H129KC01X ,  4H129KC03X ,  4H129KC03Y ,  4H129KC04X ,  4H129KC13X ,  4H129KC16X ,  4H129KC16Y ,  4H129KC18X ,  4H129KC28X ,  4H129KD07X ,  4H129KD07Y ,  4H129NA20 ,  4H129NA37
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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