特許

J-GLOBAL ID：201303038406690909

フッ素添加シリカ薄膜を付着させる方法

発明者： シュレ カラン ,  ラカン パスカル ,  ボスマン リシャール
出願人/特許権者： エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック
代理人 (2件)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-516822
特許番号：特許第5027980号
出願日： 2001年07月31日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 a)シリコン及び/または酸化シリコンの蒸発と、b)基質表面上に酸化シリコン薄膜を形成するための、酸素存在下での、前記基質表面において蒸発させたシリコン及び/または酸化シリコンの付着と、c)前記酸化シリコン薄膜の形成中に、ポリフルオロカーボン系化合物または複数のポリフルオロカーボン系化合物の混合に由来する正のイオンのビームで酸化シリコン薄膜に与える衝撃(たたくこと)と、を含む、屈折率の経時的安定性が改善されたフッ素添加シリカ薄膜(SiOxFy)の基質表面への付着の方法であり、 前記酸化シリコン薄膜の形成中に、希ガスまたは複数の希ガスの混合に由来する正のイオンのビームによってもまた、酸化シリコン薄膜に衝撃が与えられることを特徴とする、屈折率の経時的安定性が改善されたフッ素添加シリカ薄膜(SiOxFy)の基質表面への付着方法。

IPC (5件)：

C23C 14/22 ( 200 6.01) ,  C23C 14/06 ( 200 6.01) ,  C23C 14/46 ( 200 6.01) ,  C23C 14/48 ( 200 6.01) ,  G02B 1/11 ( 200 6.01)

FI (5件)：

C23C 14/22 A ,  C23C 14/06 K ,  C23C 14/46 B ,  C23C 14/48 D ,  G02B 1/10 A

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開平3-202461
  
• 石英系ガラス膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-147496   出願人：日立電線株式会社

審査官引用 (3件)

• 特開平3-202461
  
• 特開平3-202461
  
• 石英系ガラス膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-147496   出願人：日立電線株式会社

引用文献：

出願人引用 (1件)

• Inhomogeneous refractive index of SiOxFy thin films prepared by ion beam assisted deposition

審査官引用 (1件)

• Inhomogeneous refractive index of SiOxFy thin films prepared by ion beam assisted deposition