特許
J-GLOBAL ID：201303039033431378
ラジカル発生装置及びそれを用いた浄化方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
平山 一幸
, 篠田 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-231755
公開番号（公開出願番号）：特開2013-086072
出願日： 2011年10月21日
公開日（公表日）： 2013年05月13日
要約：
【課題】Oラジカル及び/又はOHラジカルの発生とマイクロバブルとを同時に効率良く発生できるラジカル発生装置及びそれを用いた浄化方法を提供する。【解決手段】ラジカル発生装置1は、水を含む溶液9を収容する反応容器2と、反応容器2に配設してガス8を搬送するためのガス搬送管3と、ガス搬送管3にガス8を供給するガス供給部6と、反応容器2内に配設する陽極電極4と、ガス搬送管内3に配設する陰極電極5と、電源部7と、を備え、ガス搬送管3は、複数の微小孔3aを有しており、微小孔3aを介して溶液2中に大気圧以上のガス8の気泡11を発生し、気泡11内のガス8が放電することにより溶液2中にOラジカル及び/又はOHラジカルと共にマイクロバブル17を発生させる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
水を含む溶液が収容される反応容器と、
上記反応容器に配設されてガスを搬送するためのガス搬送管と、
上記ガス搬送管にガスを供給するガス供給部と、
上記反応容器内に配設される陽極電極と、
上記ガス搬送管内に配設される陰極電極と、
電源部と、
を備え、
上記ガス搬送管は、複数の微小孔を有しており、
上記微小孔を介して上記溶液中に大気圧以上のガスの気泡を発生し、該気泡内のガスが放電することにより上記溶液中にOラジカル及び/又はOHラジカルと共にマイクロバブルを発生させる、ラジカル発生装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
C02F1/48 B
, B01F3/04 A
, B01F3/04 Z
4D061DA08
, 4D061DB09
, 4D061DB19
, 4D061DC03
, 4D061DC04
, 4D061DC08
, 4D061DC09
, 4D061EA15
, 4D061EB01
, 4D061EB07
, 4D061EB09
, 4D061EB14
, 4D061EB19
, 4D061EB31
, 4D061EB37
, 4D061ED06
, 4D061ED20
, 4D061GA14
, 4G035AB04
, 4G035AB07
, 4G035AE05
出願人引用 (7件)
全件表示
審査官引用 (3件)
前のページに戻る
