特許
J-GLOBAL ID：200903084927493700

水中放電プラズマ方法及び液体処理装置

発明者：
アント・トリ・スギアルト

アント・トリ・スギアルト について

, 
佐藤 正之

佐藤 正之 について


出願人/特許権者：
佐藤 正之

佐藤 正之 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-105852
公開番号（公開出願番号）：特開2004-268003
出願日： 2003年03月06日
公開日（公表日）： 2004年09月30日
要約：
【課題】水処理を対象として、効率的な水中放電プラズマ装置を実現し、高濃度のOHラジカル及びオゾンを効率よく得ることができるとともに、金属電極の溶出を防止することができる水中放電プラズマ法および液体処理装置を提供すること。【解決手段】多孔質誘電体パイプの内側に高電圧電極を貼り付けて、多孔質誘電体パイプ及び高電圧電極の内部にガス通路を形成し、また、多孔質誘電体パイプの外部と囲んだ接地電極の間に処理すべき水通路を形成し、両電極に高電圧高周波電源又は高電圧パルス電源を接続することで、多孔質誘電体パイプを通過した微細気泡に水中放電プラズマを行う方法及び実施に用いる水中放電プラズマ装置を提供する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
水処理を対象として、水中放電プラズマ法において、多孔質誘電体パイプの内側に高電圧電極をはり付けて、多孔質誘電体パイプ及び高電圧電極の内部にガス通路を形成し、多孔質誘電体パイプの外部と囲んだ接地電極の間に処理すべき水通路を形成し、両電極に高電圧高周波電源又は高電圧パルス電源を接続することで、多孔質誘電体パイプを通過した微細気泡に水中放電プラズマを行うことを特徴とする水中放電プラズマ法。
IPC (6件)：
C02F1/48 ,  B01J19/08 ,  C02F1/70 ,  C02F1/78 ,  C07C29/48 ,  C07C31/04
FI (6件)：
C02F1/48 B ,  B01J19/08 E ,  C02F1/70 Z ,  C02F1/78 ,  C07C29/48 ,  C07C31/04
Fターム (49件)：
4D050AA01 ,  4D050AA12 ,  4D050AA13 ,  4D050AB03 ,  4D050AB04 ,  4D050AB06 ,  4D050AB12 ,  4D050AB19 ,  4D050BA14 ,  4D050BB02 ,  4D050BD03 ,  4D050CA10 ,  4D061DA01 ,  4D061DA02 ,  4D061DA08 ,  4D061DB09 ,  4D061DB19 ,  4D061DC03 ,  4D061DC09 ,  4D061EA01 ,  4D061EA03 ,  4D061EA04 ,  4D061EB01 ,  4D061EB09 ,  4D061ED06 ,  4D061ED20 ,  4G075AA15 ,  4G075AA37 ,  4G075BA06 ,  4G075BA10 ,  4G075BD27 ,  4G075CA12 ,  4G075CA47 ,  4G075CA51 ,  4G075DA02 ,  4G075EA06 ,  4G075EB27 ,  4G075EB50 ,  4G075EC21 ,  4G075EE02 ,  4G075EE12 ,  4G075FA14 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4G075FB12 ,  4G075FC15 ,  4H006AA02 ,  4H006AC41 ,  4H006FE11
引用特許：
出願人引用 (7件)
全件表示
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM