特許
J-GLOBAL ID：201303039673419153

フォトレジスト上塗り組成物および電子デバイスを形成する方法

発明者：
ヤン・チョル・ペ

ヤン・チョル・ペ について

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ローズマリー・ベル

ローズマリー・ベル について

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ジョン・クン・パク

ジョン・クン・パク について

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スン-ヒョン・リー

スン-ヒョン・リー について


出願人/特許権者：
ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.

ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. について


代理人 (1件)： 特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-196332
公開番号（公開出願番号）：特開2013-061648
出願日： 2012年09月06日
公開日（公表日）： 2013年04月04日
要約：
【課題】フォトレジスト上塗り組成物および、前記上塗り組成物でコーティングされた基体、並びにネガティブトーン現像プロセスによって電子デバイスを形成する方法の提供。【解決手段】以下の一般式(I)のモノマーを重合単位として含むポリマー、有機溶媒および塩基性クエンチャーを含む上塗り組成物。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
下記一般式(I):
IPC (5件)：
G03F 7/11 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/20 ,  C08F 20/22
FI (5件)：
G03F7/11 501 ,  G03F7/32 ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/20 ,  C08F20/22
Fターム (41件)：
2H096GA03 ,  2H125AF17P ,  2H125AF38P ,  2H125AH19 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ59X ,  2H125AJ65X ,  2H125AM23N ,  2H125AM23P ,  2H125AM27N ,  2H125AN39N ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN56P ,  2H125AN63N ,  2H125AN82N ,  2H125AN82P ,  2H125BA02P ,  2H125CA12 ,  2H125CC01 ,  2H125CC15 ,  2H125DA03 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05 ,  4J100AL03P ,  4J100AL03Q ,  4J100AL04P ,  4J100AL04Q ,  4J100AL05P ,  4J100AL05Q ,  4J100AL08Q ,  4J100BB07Q ,  4J100BB11Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (12件)
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