特許
J-GLOBAL ID:201303041200890856
光干渉システム、基板処理装置及び測定方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
長谷川 芳樹
, 黒木 義樹
, 柏岡 潤二
, 大森 鉄平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-010380
公開番号(公開出願番号):特開2013-117507
出願日: 2012年01月20日
公開日(公表日): 2013年06月13日
要約:
【課題】光干渉システムが有する分光器の分解能を変更することなく当該光干渉システムの測定可能な厚さの範囲を拡張することができる光干渉システム、基板処理装置及び測定方法が提供する。【解決手段】光干渉システム1は、測定対象物の厚さ又は温度を計測するシステムあって、光源10、スプリッタ500、第1コリメータ12、参照ミラー502、第2コリメータ501、分光器14及び計測部15を備える。スプリッタ500から測定対象物13までの第1光路長Ls、スプリッタ500から参照ミラー502までの第2光路長LrはLs<Lrを満たすように配置される。計測部15は、分光器14の分解能により規定される最大計測光学厚さXmax<2・n・d<2・Xmaxの場合には、第1光路長Lsと第2光路長Lrとの光路差により生じる干渉ピークの間隔に基づいて測定対象物の厚さ又は温度を計測する。【選択図】図18
請求項(抜粋):
第1主面及び前記第1主面に対向する第2主面を有する測定対象物の厚さ又は温度を計測する光干渉システムであって、
前記測定対象物を透過する波長を有する光の光源と、
前記光源に接続され、前記光源からの光を測定光と参照光とに分けるスプリッタと、
前記スプリッタからの測定光を前記測定対象物の前記第1主面へ出射するとともに、前記第1主面及び前記第2主面からの反射光を入射する第1コリメータと、
光を反射する参照ミラーと、
前記スプリッタからの参照光を前記参照ミラーへ出射するとともに、前記参照ミラーからの反射光を入射する第2コリメータと、
前記スプリッタに接続され、波長に依存した強度分布であって前記第1主面、前記第2主面及び前記参照ミラーからの前記反射光の強度分布である干渉強度分布を測定する分光器と、
前記分光器に接続され、前記干渉強度分布をフーリエ変換して得られる波形に基づいて前記測定対象物の厚さ又は温度を計測する計測部と、
を備え、
前記スプリッタから前記測定対象物までの第1光路長をLs、前記スプリッタから前記参照ミラーまでの第2光路長をLrとすると、Ls<Lrを満たすように前記スプリッタ、前記第1コリメータ、前記測定対象物、前記第2コリメータ及び前記参照ミラーが配置され、
前記計測部は、前記分光器の分解能により規定される最大計測光学厚さをXmax、前記測定対象物の厚さをd、前記測定対象物の前記測定光に対する屈折率をnとすると、Xmax<2・n・d<2・Xmaxの場合には、前記第1光路長と前記第2光路長との光路差により生じる干渉ピークの間隔に基づいて前記測定対象物の厚さ又は温度を計測する光干渉システム。
IPC (3件):
G01B 11/06
, G01B 9/02
, G01J 5/58
FI (3件):
G01B11/06 G
, G01B9/02
, G01J5/58
Fターム (45件):
2F064EE01
, 2F064GG00
, 2F064GG02
, 2F064GG12
, 2F064GG22
, 2F064GG42
, 2F064GG44
, 2F064GG49
, 2F064HH02
, 2F064HH03
, 2F064HH07
, 2F064HH08
, 2F064JJ15
, 2F065AA30
, 2F065BB01
, 2F065FF52
, 2F065JJ02
, 2F065JJ03
, 2F065JJ18
, 2F065JJ25
, 2F065JJ26
, 2F065LL00
, 2F065LL02
, 2F065LL04
, 2F065LL12
, 2F065LL23
, 2F065LL42
, 2F065LL46
, 2F065LL67
, 2F065QQ01
, 2F065QQ16
, 2F065QQ17
, 2F065QQ18
, 2F065QQ21
, 2F065QQ26
, 2F065QQ29
, 2F065QQ32
, 2G066AA04
, 2G066AC11
, 2G066BA14
, 2G066BA22
, 2G066BA25
, 2G066BA38
, 2G066BC30
, 2G066CB01
引用特許:
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