特許

J-GLOBAL ID：201303041607975406

酢酸及び/又は酢酸メチル製造中における触媒の安定性の向上及び/又は不活性化の防止方法

発明者： ダニエル チボー ,  カール パトワ ,  リズ ライロン ,  ダニエル マルシャン
出願人/特許権者： アセテクス・シミ
代理人 (1件)： 特許業務法人 安富国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-504870
特許番号：特許第4863592号
出願日： 2000年06月21日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 反応工程と呼ばれる第一の工程で、一酸化炭素、並びに、少なくとも1つのハロゲン化助触媒及び少なくとも1つのイリジウム系触媒化合物からなる触媒系の存在下で、少なくとも1つのギ酸メチルの異性化反応を液相において行い、フラッシュ工程と呼ばれる第二の工程で、フラッシュセパレーターと呼ばれるセパレーター中で、第一工程から生じた反応媒質の部分気化を行うことからなる酢酸及び/又は酢酸メチルの製造方法において、触媒の安定性の向上及び/又は不活性化の防止を行う方法であって、 ギ酸及びギ酸メチルの総含量を、前記フラッシュセパレーターから生じた気化していない液体画分中において、前記液体画分の1重量%以上に維持することを特徴とする触媒の安定性の向上及び/又は不活性化の防止を行う方法。

IPC (7件)：

C07C 51/353 ( 200 6.01) ,  B01J 27/13 ( 200 6.01) ,  C07C 51/12 ( 200 6.01) ,  C07C 53/08 ( 200 6.01) ,  C07C 67/36 ( 200 6.01) ,  C07C 69/14 ( 200 6.01) ,  C07B 61/00 ( 200 6.01)

FI (7件)：

C07C 51/353 ,  B01J 27/13 Z ,  C07C 51/12 ,  C07C 53/08 ,  C07C 67/36 ,  C07C 69/14 ,  C07B 61/00 300

引用特許：

出願人引用 (2件)

• ギ酸メチルからの酢酸の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-045926   出願人：三菱瓦斯化学株式会社
• カルボニル化生成物の回収方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-056993   出願人：ビーピーケミカルズリミテッド

審査官引用 (1件)

• ギ酸メチルからの酢酸の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-045926   出願人：三菱瓦斯化学株式会社