特許
J-GLOBAL ID：201303042982065537

低耐熱性の基材にセラミック膜を形成する方法

発明者：
幸塚 広光

幸塚 広光 について

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内山 弘章

内山 弘章 について

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福井 隆文

福井 隆文 について

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高橋 充

高橋 充 について


出願人/特許権者：
学校法人 関西大学

学校法人 関西大学 について


代理人 (1件)： 矢野 正行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-285428
公開番号（公開出願番号）：特開2013-132614
出願日： 2011年12月27日
公開日（公表日）： 2013年07月08日
要約：
【課題】接着剤を介することなく液相法による種々のセラミック膜を低耐熱性基材上に形成する方法及び、高屈折率と熱可塑性を兼ね備えた材料を提供する。【解決手段】支持体上に500°C以上の耐熱性を有するポリイミド等の有機高分子膜を形成する工程と、その上に金属アルコキシド、金属硝酸塩、金属塩化物塩、金属カルボン酸塩又はそれらの組み合わせからなる金属塩の溶液を塗布した後、500°C以上に加熱することにより、前記有機高分子膜上にセラミック膜を形成する工程と、前記セラミック膜を低耐熱性の基材と合わせた状態でセラミック膜と基材との界面を加熱することにより、基材上にセラミック膜を転写する工程とを備えるセラミック膜を低耐熱性基材上に形成する方法。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
支持体上に500°C以上の耐熱性を有する有機高分子膜を形成する工程と、 その上に金属塩の溶液を塗布した後、500°C以上に加熱することにより、前記有機高分子膜上にセラミック膜を形成する工程と、 前記セラミック膜を低耐熱性の基材と合わせた状態でセラミック膜と基材との界面を加熱することにより、基材上にセラミック膜を転写する工程と を備えることを特徴とする、低耐熱性の基材にセラミック膜を形成する方法。
IPC (4件)：
B05D 7/24 ,  C23C 18/12 ,  B32B 18/00 ,  B05D 1/28
FI (4件)：
B05D7/24 302A ,  C23C18/12 ,  B32B18/00 C ,  B05D1/28
Fターム (45件)：
4D075AC41 ,  4D075AC92 ,  4D075AE03 ,  4D075AE27 ,  4D075BB37Z ,  4D075BB93Z ,  4D075DB31 ,  4D075DB43 ,  4D075DB48 ,  4D075EB39 ,  4D075EC05 ,  4D075EC08 ,  4F100AA02C ,  4F100AD00C ,  4F100AK01B ,  4F100AK01D ,  4F100AK25D ,  4F100AK42D ,  4F100AK45D ,  4F100AK49B ,  4F100AT00A ,  4F100AT00D ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100EC04C ,  4F100EH46C ,  4F100EJ42 ,  4F100JA05 ,  4F100JJ03B ,  4F100JK12 ,  4F100JL00 ,  4F100JM02C ,  4F100JM03B ,  4F100YY00B ,  4K022AA15 ,  4K022AA17 ,  4K022AA20 ,  4K022AA23 ,  4K022BA10 ,  4K022BA15 ,  4K022BA21 ,  4K022BA22 ,  4K022BA25 ,  4K022BA33 ,  4K022DA06
引用特許：
審査官引用 (5件)
  • 転写基板とそれを用いた転写方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-298952   出願人：富士ゼロックス株式会社
  • 特開平4-344236
  • 微小構造体の製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-016586   出願人：富士ゼロックス株式会社
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