特許
J-GLOBAL ID:201303043841810898

ガスに搭載の予め作製した多孔質集合体による多孔質セラミックフィルタ上への識別層の施工方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 小林 浩 ,  大森 規雄 ,  鈴木 康仁
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-527095
公開番号(公開出願番号):特表2013-540582
出願日: 2011年08月17日
公開日(公表日): 2013年11月07日
要約:
少なくとも1つの多孔質壁を有するセラミック担体上に多孔質識別層が形成され、それは(a)その担体を通過する、高度に多孔質の粒子を含有するガス流の流れを設けて、その担体の1つもしくは複数の壁上に、セラミックもしくはセラミック前駆体の高度に多孔質の粒子の層を堆積するステップ、および(b)前記堆積した層を仮焼して、識別層を形成するステップによる。この方法は、多孔質壁上に識別層を形成する、1つの安価かつ有効な手段である。
請求項(抜粋):
少なくとも1つの多孔質壁を有するセラミック担体上に多孔質識別層を形成する方法であって、 (a)前記少なくとも1つの多孔質壁のガス入口側から前記少なくとも1つの多孔質壁のガス出口側まで、前記少なくとも1つの多孔質壁を貫通する、混入されたセラミックもしくはセラミック前駆体の高気孔率の粒子を含むガス流の流れを設け、前記少なくとも1つの多孔質壁のガス入口側上に、前記高気孔率の粒子の少なくとも一部が堆積して、高気孔率の粒子の堆積層を形成するようにするステップであって、(1)前記高気孔率の粒子が、10〜500ミクロンの寸法を有し、(2)前記高気孔率の粒子が、水銀気孔率測定法により測定して少なくとも50体積%の気孔率、および10ミクロン以下の見掛け体積平均気孔直径を有し、また(3)前記堆積層が、前記少なくとも1つの多孔質壁の厚さの端から端までの一部だけに広がる、ステップと、 (b)前記堆積層を仮焼して、前記多孔質識別層を形成するステップとを含む、方法。
IPC (3件):
B01J 35/04 ,  B01J 21/12 ,  B01D 53/94
FI (4件):
B01J35/04 301P ,  B01J35/04 301E ,  B01J21/12 A ,  B01D53/36 104B
Fターム (29件):
3G190AA12 ,  3G190BA02 ,  3G190CA13 ,  3G190CA15 ,  4D048AA14 ,  4D048AB01 ,  4D048BA07X ,  4D048BA10X ,  4D048BA41X ,  4D048BB02 ,  4D048BB08 ,  4D048BB14 ,  4D048CD05 ,  4G169AA01 ,  4G169AA08 ,  4G169BA03B ,  4G169BA04B ,  4G169BA13A ,  4G169BA13B ,  4G169CA03 ,  4G169CA07 ,  4G169CA18 ,  4G169EA13 ,  4G169EA19 ,  4G169EA27 ,  4G169EB17X ,  4G169FA01 ,  4G169FB06 ,  4G169FB30
引用特許:
審査官引用 (1件)

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