特許
J-GLOBAL ID:201303043856254223
積層体、及びその用途
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-028034
公開番号(公開出願番号):特開2013-164525
出願日: 2012年02月13日
公開日(公表日): 2013年08月22日
要約:
【課題】種々の用途に有用なパターン光学異方性層を有する新規な積層体の提供。【解決手段】偏光子、第1のフィルム、及び該第1のフィルムの一方の表面上に配置されるパターン光学異方性層を含む積層体であって、 前記パターン光学異方性層が、第1位相差領域及び第2位相差領域を有し、前記第1位相差領域と第2位相差領域が、同一面内に配置されており、前記第1位相差領域及び第2位相差領域が、面内遅相軸方向及び面内レターデーションの少なくとも一方が互いに異なり、且つ、前記第1位相差領域と第2位相差領域との境界線のうち、隣接する2つの境界線間の距離Lが1mm〜50mmであるパターン光学異方性層であり、並びに 前記パターン光学異方性層の互いに隣り合う前記第1及び第2位相差領域の境界部に対応する位置に少なくとも配置される幅5μm〜200μmの色素部分を有することを特徴とする積層体である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
偏光子、第1のフィルム、及び該第1のフィルムの一方の表面上に配置されるパターン光学異方性層を含む積層体であって、
前記パターン光学異方性層が、第1位相差領域及び第2位相差領域を有し、前記第1位相差領域と第2位相差領域が、同一面内に配置されており、前記第1位相差領域及び第2位相差領域が、面内遅相軸方向及び面内レターデーションの少なくとも一方が互いに異なり、且つ、前記第1位相差領域と第2位相差領域との境界線のうち、隣接する2つの境界線間の距離Lが1mm〜50mmであるパターン光学異方性層であり、並びに
前記パターン光学異方性層の互いに隣り合う前記第1及び第2位相差領域の境界部に対応する位置に配置される幅5μm〜200μmの色素部分を有することを特徴とする積層体。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (42件):
2H149AA02
, 2H149AA20
, 2H149BA02
, 2H149CA02
, 2H149DA01
, 2H149DA04
, 2H149DA12
, 2H149DB04
, 2H149EA03
, 2H149EA19
, 2H149FA02X
, 2H149FA02Z
, 2H149FA03W
, 2H149FA05X
, 2H149FA05Z
, 2H149FA08X
, 2H149FA08Z
, 2H149FA12X
, 2H149FA12Z
, 2H149FA13X
, 2H149FA13Z
, 2H149FA24Y
, 2H149FA34Y
, 2H149FA37Y
, 2H149FA53X
, 2H149FA53Z
, 2H149FA54X
, 2H149FA54Y
, 2H149FA54Z
, 2H149FA63
, 2H149FC08
, 2H149FD05
, 2H149FD09
, 2H191FA22
, 2H191FA30
, 2H191FB05
, 2H191FC08
, 2H191MA01
, 2H191PA25
, 2H191PA44
, 2H191PA84
, 2H191PA86
引用特許:
出願人引用 (10件)
全件表示
審査官引用 (10件)
全件表示
前のページに戻る