成膜装置のプロセスチャンバー、成膜装置および成膜方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：園田吉隆 , 小林義教 , 鈴木康仁
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-301233
公開番号（公開出願番号）：特開2003-115459
特許番号：特許第4936621号
出願日： 2001年09月28日
公開日（公表日）： 2003年04月18日
請求項（抜粋）：

【請求項1】回転する支持部材に基板を支持した状態で前記基板に向けて成膜ガスを供給し前記基板の成膜を行う成膜装置のプロセスチャンバーであって、前記支持部材を収容するチャンバー本体と、前記チャンバー本体の側部に設けられ、前記成膜ガスを前記チャンバー本体内に導入するための複数の導入孔を有する整流板と、前記導入孔を塞ぐための閉塞部材とを備え、前記複数の導入孔のうちのいずれの導入孔を前記閉塞部材で塞ぐのかは、前記支持部材の回転に基づいて決定される成膜装置のプロセスチャンバー。

IPC (2件)：