特許
J-GLOBAL ID：201303045729318355
計算プロセス制御
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-114388
公開番号（公開出願番号）：特開2012-253336
出願日： 2012年05月18日
公開日（公表日）： 2012年12月20日
要約：
【課題】本発明は計算プロセス制御(CPC)の分野で幾つかの革新技術を提供する。【解決手段】本発明の実施形態によって、リソグラフィ装置の性能及び/又はリソグラフィ工程のパラメータを、事前定義されたベースライン条件の実質的に近辺に維持することで、プロセスウィンドウの最適化及びより高い歩留まりが可能になる。これは、リソグラフィ工程シミュレーションモデルを用いて、測定された時間的なドリフトをベースライン性能モデルと比較することで実行される。製造に入ると、CPCはウェーハ計測技術及びフィードバックループを活用することで特定のパターン又はレチクルに合わせてスキャナを最適化し、とりわけ、時間経過と共にオーバレイ及び/又はCDの均一性(CDU)性能をモニタ及び制御してシステムをベースライン条件近くに連続して維持する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
リソグラフィ工程に使用されるリソグラフィ装置の性能の時間的なドリフトを低減することで前記リソグラフィ工程を制御する方法であって、
(a)前記リソグラフィ装置のベースライン性能を定義するステップであって、前記ベースライン性能のリソグラフィモデルは、初期時間において前記リソグラフィ工程を用いて露光されたパターンから収集されたウェーハ計測データの第1のセットを用いて入手され、前記リソグラフィモデルは、前記リソグラフィ装置の1つ以上の設定に関連する1つ以上のリソグラフィ工程パラメータの変動をシミュレートする、ステップと、
(b)前記ベースライン性能に関する前記リソグラフィ装置の現在の性能に関連付けられた時間的なドリフトを分析することで前記リソグラフィ装置の性能の安定性をモニタするステップであって、前記時間的なドリフトは、前記初期時間において収集されたウェーハ計測データと、後続時間において露光されたパターンから収集された後続のウェーハ計測データと、を比較することで決定される、ステップと、
(c)前記リソグラフィ装置の1つ以上の設定を調整し、前記ベースライン性能と前記現在の性能との差分を低減することで前記決定された時間的なドリフトを低減し、それによって前記リソグラフィ工程を前記定義されたベースライン性能内又は実質的にその近くに維持するステップと、
を含む、方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 516Z
, G03F7/20 521
