特許
J-GLOBAL ID:201303045729401384

活性炭の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西川 惠清
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-331993
公開番号(公開出願番号):特開2002-137911
特許番号:特許第4876307号
出願日: 2000年10月31日
公開日(公表日): 2002年05月14日
請求項(抜粋):
【請求項1】有機物を炭化・賦活処理した後、実質的に酸素を含まない還元性ガスを1〜15%含有する不活性ガスとの混合ガス雰囲気中で温度300〜500°Cの範囲内において加熱処理することを特徴とする活性炭の製造方法。
IPC (2件):
C01B 31/10 ( 200 6.01) ,  C02F 1/28 ( 200 6.01)
FI (3件):
C01B 31/10 ,  C02F 1/28 F ,  C02F 1/28 D
引用特許:
審査官引用 (4件)
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