特許
J-GLOBAL ID：201303046605509280

有機ELデバイスの製造方法及び製造装置

発明者：
垣内 良平

垣内 良平 について

, 
山本 悟

山本 悟 について

, 
肥田 加奈子

肥田 加奈子 について


出願人/特許権者：
日東電工株式会社

日東電工株式会社 について


代理人 (2件)： 藤本 昇 ,  中谷 寛昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-245844
公開番号（公開出願番号）：特開2013-101880
出願日： 2011年11月09日
公開日（公表日）： 2013年05月23日
要約：
【課題】品質の低下が抑制された有機ELデバイスを製造し得る有機ELデバイスの製造方法及び製造装置を提供する。 【解決手段】帯状の基材を長手方向に移動させつつ蒸着により該基材に有機EL素子の構成層を形成する有機ELデバイスの製造方法であって、前記基材を長手方向に移動させつつ、該基材の移動方向に沿って設けられた第1及び第2蒸着部にて、前記基材の一面に蒸着源から気化材料を吐出して順次蒸着を行う構成層形成工程を備え、該構成層形成工程は、複数の上向き蒸着工程と、方向変換工程とを備えている有機ELデバイスの製造方法。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
帯状の基材を長手方向に移動させつつ蒸着により該基材に有機EL素子の構成層を形成する有機ELデバイスの製造方法であって、 前記基材を前記長手方向に移動させつつ、該基材の移動方向に沿って配置された少なくとも第1及び第2蒸着部にて、前記基材の一面に蒸着源から気化材料を吐出して順次蒸着を行う構成層形成工程を備え、 前記構成層形成工程は、 前記第1及び第2蒸着部にて、前記基材を蒸着面が下方を向いた状態で移動させつつ該基材の下方に配置された前記蒸着源から前記蒸着面に前記気化材料を吐出して蒸着を行う上向き蒸着工程と、 前記第1蒸着部と前記第2蒸着部との間に設けられたガイド機構によって、前記第1蒸着部から送られた前記基材を、該基材の非蒸着面が内周面となるように該非蒸着面側から支持しながら前記蒸着面が上方を向いた後、下方を向くように回転させ、前記第2蒸着部へと案内する方向変換工程と、 を備えていることを特徴とする有機ELデバイスの製造方法。
IPC (4件)：
H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/02 ,  C23C 14/56
FI (4件)：
H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/02 ,  C23C14/56 B
Fターム (26件)：
3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC45 ,  3K107DD12 ,  3K107DD15 ,  3K107DD16 ,  3K107DD17 ,  3K107FF15 ,  3K107GG04 ,  3K107GG28 ,  3K107GG32 ,  3K107GG41 ,  4K029AA02 ,  4K029AA25 ,  4K029BA03 ,  4K029BA21 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029CA01 ,  4K029DB03 ,  4K029DB04 ,  4K029DB06 ,  4K029DB14 ,  4K029DB18 ,  4K029JA10 ,  4K029KA03
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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