特許
J-GLOBAL ID：201303048047241198
リソグラフィ装置、デバイス製造方法とそれに関連付けられたデータ処理装置及びコンピュータプログラム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-553239
公開番号（公開出願番号）：特表2013-520019
出願日： 2011年01月12日
公開日（公表日）： 2013年05月30日
要約：
【課題】スキャナタイプのリソグラフィ装置内のスキャン期間内のパターニング性能特性の補正を含むリソグラフィ装置の性能を改善する有効なシステム及び方法を提供する。【解決手段】リソグラフィ装置は、パターンが基板の連続部分に付加されるように運動シーケンス内で基板とパターニングデバイスとを互いに対して移動させることで動作する。基板の各部分は、スキャン動作によってパターニングされる。スキャン動作では、パターニングデバイスはパターン付放射ビームによって同期して基板をスキャンしてパターンを基板上の所望の部分に付加し、その間、放射ビームによってスキャンされる。各スキャン動作中にフィールド内補正が実行されてスキャン動作中に変動する歪作用を補償する。フィールド内補正は、投影システムの1つ以上の特性と、オプションとして、パターニングデバイス及び/又は基板テーブルの面外運動と、の修正変動を含む。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
パターニングデバイスから基板の連続する部分上にパターンを転写するリソグラフィ装置であって、
放射ビームを調節する照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成できるパターニングデバイスを支持する支持体と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、
前記基板テーブルと前記パターニングデバイスとを互いに対して、また前記投影システムに対して移動させて、前記放射ビームによって前記パターニングデバイスをスキャンする間に前記パターン付放射ビームによって前記基板を同期してスキャンし、前記パターンを前記基板の所望の部分に付加する制御システムと、
を備えるリソグラフィ装置であって、
前記制御システムは、前記スキャン動作中に前記投影システムの1つ以上の特性の補正変動を引き起こして前記スキャン動作中に変動する歪作用を補償する、リソグラフィ装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, H01L 21/68
H01L21/30 516A
, G03F7/20 521
, H01L21/68 K
5F131AA02
, 5F131BA13
, 5F131CA32
, 5F131EA02
, 5F131EA22
, 5F131EB01
, 5F131EB11
, 5F131FA17
, 5F131KA03
, 5F131KA16
, 5F131KA34
, 5F131KA44
, 5F131KB32
, 5F146BA04
, 5F146BA05
, 5F146DA13
, 5F146DB05
