特許
J-GLOBAL ID：200903070144702127

露光装置及び露光方法

発明者：
太田 和哉

太田 和哉 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-324769
公開番号（公開出願番号）：特開平11-219900
出願日： 1998年11月16日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：
【要約】【課題】 重ね合せ精度の向上を図る。【解決手段】 照明系(12、M、44)によりマスクRのパターン面に対し所定の入射角θで照明光ELが照射されると、この照明光ELがパターン面で反射され、この反射光が投影光学系POによって基板W上に投射され、照明光で照明されたマスクR上の領域のパターンが基板W上に転写される。この転写に際して、ステージ制御系では、所定の調整用位置情報に基づいてマスクRの投影光学系POに対するZ方向の相対位置を調整しつつ、マスクステージRSTと基板ステージWSTとをY方向に沿って同期移動させる。これにより、投影光学系POのマスク側が非テレセントリックであるにもかかわらず、マスクのZ変位に起因して基板W上のパターンの転写像に倍率誤差や位置ずれが生ずるのを効果的に抑制でき、結果的に重ね合わせ精度が向上する。
請求項（抜粋）：
マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して基板上に転写する露光装置であって、前記マスクが反射型マスクであり、前記投影光学系が反射光学系であり、前記マスクを保持するマスクステージと;前記基板を保持する基板ステージと;前記マスクのパターン面に対し所定の入射角で露光用照明光を照射する照明系と;前記露光用照明光により照明された前記マスクのパターンを前記投影光学系を介して前記基板上に転写するために、所定の調整用位置情報に基づいて前記マスクの前記投影光学系の光軸方向である第1軸方向の位置を調整しつつ、前記マスクステージと基板ステージとを前記第1軸方向に直交する第2軸方向に沿って同期移動させるステージ制御系とを備える露光装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/02
FI (8件)：
H01L 21/30 526 A ,  G03F 1/08 Z ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/02 H ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 531 A
引用特許：
審査官引用 (13件)
  • 半導体露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-143962   出願人：株式会社日立製作所
  • 特開平4-155814
  • 特開平1-270690
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