特許
J-GLOBAL ID:201303048899303513
ハロゲン単体とハロゲン化物との除去方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (5件):
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
, 角田 衛
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-198649
公開番号(公開出願番号):特開2003-010635
特許番号:特許第4755364号
出願日: 2001年06月29日
公開日(公表日): 2003年01月14日
請求項(抜粋):
【請求項1】 Cl2、Br2及びI2からなる群より選ばれる一種以上のハロゲン単体と、BCl3、CCl4、SiCl4、COCl2、COF2、SiF4、WF6及びClF3からなる群より選ばれる一種以上のハロゲン化物とを含有するガスを、ガス温度0°C〜100°Cで、Pd、Fe、Ni、Co、Mn及びCuからなる群より選ばれる一種以上の特定金属元素を含む触媒を充填した触媒層に接触させ、次いで炭酸水素塩の粒状物層に接触させることによって、前記ハロゲン単体および前記ハロゲン化物と前記炭酸水素塩とを反応させて水溶性の塩を生成させ、前記ガスから前記ハロゲン単体と前記ハロゲン化物とを除去する方法。
IPC (3件):
B01D 53/68 ( 200 6.01)
, B01D 53/34 ( 200 6.01)
, B01D 53/86 ( 200 6.01)
FI (4件):
B01D 53/34 134 A
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/34 134 C
, B01D 53/36 Z
引用特許: