特許
J-GLOBAL ID：201303049096188550

ケイ素含有表面改質剤、これを含むレジスト下層膜形成用組成物、及びパターン形成方法

発明者：
荻原 勤

荻原 勤 について

, 
上田 貴史

上田 貴史 について

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種田 義則

種田 義則 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-029230
公開番号（公開出願番号）：特開2013-166812
出願日： 2012年02月14日
公開日（公表日）： 2013年08月29日
要約：
【課題】ネガ現像において得られる親水性有機化合物で形成されるレジストパターンに適用出来るレジスト下層膜を提供する。【解決手段】下記一般式(A)で表される繰り返し単位、及び下記一般式(C)で表される部分構造のいずれか1つ以上を含有することを特徴とするケイ素含有表面。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(A)で表される繰り返し単位、及び下記一般式(C)で表される部分構造のいずれか1つ以上を含有することを特徴とするケイ素含有表面改質剤。
IPC (7件)：
C08G 77/14 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/11 ,  H01L 21/027 ,  C09K 3/00
FI (7件)：
C08G77/14 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/11 503 ,  H01L21/30 573 ,  C09K3/00 R
Fターム (80件)：
2H125AF17N ,  2H125AF17P ,  2H125AF26N ,  2H125AF30N ,  2H125AF32N ,  2H125AF36N ,  2H125AF38P ,  2H125AF41N ,  2H125AF43N ,  2H125AF70N ,  2H125AH05 ,  2H125AH11 ,  2H125AH16 ,  2H125AH24 ,  2H125AH25 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ18X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM22N ,  2H125AM85N ,  2H125AM91N ,  2H125AM94N ,  2H125AM99N ,  2H125AN03N ,  2H125AN11N ,  2H125AN31N ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN51P ,  2H125AN54N ,  2H125AN88P ,  2H125AP01N ,  2H125BA01N ,  2H125BA02N ,  2H125BA24N ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125CC17 ,  2H125CD12N ,  2H125CD40 ,  2H125DA24 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05 ,  4J246AA03 ,  4J246AB15 ,  4J246BA11X ,  4J246BA110 ,  4J246BA13X ,  4J246BA130 ,  4J246BB01X ,  4J246BB012 ,  4J246BB02X ,  4J246BB020 ,  4J246BB021 ,  4J246CA22U ,  4J246CA22X ,  4J246CA220 ,  4J246CA24U ,  4J246CA24X ,  4J246CA27U ,  4J246CA27X ,  4J246CA40U ,  4J246CA40X ,  4J246CA400 ,  4J246FA072 ,  4J246FA132 ,  4J246FA422 ,  4J246GA01 ,  4J246HA28 ,  4J246HA29 ,  4J246HA66 ,  5F146NA07 ,  5F146NA14
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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