反射防止膜材料、これを用いた反射防止膜及びパターン形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：奥山尚一 , 有原幸一 , 松島鉄男 , 河村英文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-165524
公開番号（公開出願番号）：特開2005-018054
出願日： 2004年06月03日
公開日（公表日）： 2005年01月20日
要約：

【課題】レジストに対してエッチング選択比が高い、即ちレジストに対してエッチングスピードが速い反射防止膜の材料を提供し、且つこの反射防止膜材料を用いて基板上に反射防止膜層を形成するパターン形成方法及び、この反射防止膜を基板加工のハードマスクとして用いるパターン形成方法も提供する。【解決手段】 (A)下記一般式(1)及び/又は下記一般式(2)で表される共重合によるくり返し単位を有する高分子化合物と、(B)有機溶媒と、(C)酸発生剤とを含有する反射防止膜材料を提供する。【化1】【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表される共重合によるくり返し単位を有することを特徴とする高分子化合物と、

IPC (2件)：

G03F7/11 , H01L21/027

FI (2件)：

G03F7/11 503 , H01L21/30 574

Fターム (49件)：

2H025AA17 , 2H025AB16 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025DA34 , 2H025FA35 , 2H025FA39 , 4J246AA03 , 4J246AA06 , 4J246AA11 , 4J246AA19 , 4J246AB06 , 4J246AB15 , 4J246BA020 , 4J246BA040 , 4J246BA12X , 4J246BA120 , 4J246BB02X , 4J246BB020 , 4J246BB022 , 4J246BB450 , 4J246BB451 , 4J246CA13U , 4J246CA13X , 4J246CA130 , 4J246CA350 , 4J246CA390 , 4J246CA40X , 4J246CA400 , 4J246CA53X , 4J246CA560 , 4J246CA640 , 4J246CA68X , 4J246CA680 , 4J246CA690 , 4J246CB08 , 4J246FA081 , 4J246FA131 , 4J246FA421 , 4J246FA441 , 4J246FB211 , 4J246GA01 , 4J246GB33 , 4J246GC25 , 4J246GC26 , 4J246GD08 , 4J246HA15 , 4J246HA23 , 5F046PA07

引用特許：

出願人引用 (23件)

リソグラフィー用下地材
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-244050 出願人：東京応化工業株式会社
特開平57-131250号公報
特開昭56-129261号公報

全件表示

審査官引用 (4件)

反射防止膜形成用組成物及びそれに用いるラダー型シリコーン共重合体
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-396335 出願人：東京応化工業株式会社
ハードマスク層用の反射防止SiO含有組成物
公報種別：公表公報出願番号：特願2003-586669 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
反射防止膜材料、反射防止膜を有する基板及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-369596 出願人：信越化学工業株式会社

全件表示

前のページに戻る