特許

J-GLOBAL ID：201303050790679127

培養プレートの抗菌処理方法

発明者： 小原 收 ,  高橋 善和 ,  小林 弘 ,  中台 康紀
出願人/特許権者： 公益財団法人かずさDNA研究所 ,  オーウェル株式会社
代理人 (1件)： 阿部 正博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-043204
公開番号（公開出願番号）：特開2013-176344
出願日： 2012年02月29日
公開日（公表日）： 2013年09月09日
要約：

【課題】抗菌性を付与する対象となる培養プレート全面に抗菌剤を用いることなく抗菌性を付与すること。【解決手段】培養プレートの表面に合成樹脂被膜を形成後、酸素雰囲気で真空紫外光照射処理することにより前記培養プレートに抗菌性を付与することを特徴とする、培養プレートの抗菌処理方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

培養プレートの表面に合成樹脂被膜を形成後、酸素雰囲気で真空紫外光照射処理することにより前記培養プレートに抗菌性を付与することを特徴とする、培養プレートの抗菌処理方法。

IPC (2件)：

C12M 1/22 ,  C12M 1/00

FI (2件)：

C12M1/22 ,  C12M1/00 C

Fターム (4件)：

4B029AA08 ,  4B029BB01 ,  4B029GA01 ,  4B029GB09

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 多孔質部材の抗菌処理方法及び抗菌性フィルター
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-042856   出願人：株式会社アルバック
• 基材表面親水化処理方法及び被処理物の製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-205959   出願人：財団法人かずさディー・エヌ・エー研究所, 学校法人早稲田大学