特許
J-GLOBAL ID：201203099167607079
基材表面親水化処理方法及び被処理物の製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
阿部 正博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-205959
公開番号（公開出願番号）：特開2012-062504
出願日： 2010年09月14日
公開日（公表日）： 2012年03月29日
要約：
【課題】極めて短時間の紫外線照射処理によって、ばらつきの少なく長時間安定して極めて良好な親水性を示すことができるようなポリ尿素膜の親水化処理方法を提供する。【解決手段】被処理物に成膜されたポリ尿素膜の表面の親水化方法であって、真空処理室1において被処理物にポリ尿素膜を成膜させた後、該被処理物を大気中の水分と接触させずに親水化処理室7に移動させ、該親水化処理室において酸素ガス雰囲気中でポリ尿素膜が成膜された被処理物に紫外線照射することにより親水化処理を行う。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被処理物に成膜されたポリ尿素膜の表面の親水化方法であって、真空処理室において被処理物にポリ尿素膜を成膜させた後、該被処理物を大気中の水分と接触させずに親水化処理室に移動させ、該親水化処理室において酸素ガス雰囲気中でポリ尿素膜が成膜された被処理物に紫外線照射することにより親水化処理を行うことを特徴とする前記親水化方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (7件)：
4K029AA11
, 4K029AA24
, 4K029BA62
, 4K029CA01
, 4K029DB06
, 4K029DB14
, 4K029GA00
