特許
J-GLOBAL ID：201303051225522679

ウォールフロー型排ガス浄化フィルタ

発明者：
宮入 由紀夫

宮入 由紀夫 について


出願人/特許権者：
日本碍子株式会社

日本碍子株式会社 について


代理人 (4件)： 渡邉 一平 ,  木川 幸治 ,  佐藤 博幸 ,  小池 成
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-193174
公開番号（公開出願番号）：特開2013-053589
出願日： 2011年09月05日
公開日（公表日）： 2013年03月21日
要約：
【課題】本発明の課題は、触媒を担持した後でも圧力損失が増加しにくいウォールフロー型排ガス浄化フィルタを提供する。【解決手段】排ガス浄化フィルタは、多孔質セラミックからなる隔壁12を有するハニカム構造体と、所定のセルの一方の開口端部と残余のセルの他方の開口端部とに配設された目封止部と、を備える。排ガス浄化フィルタは、隔壁12の表面に平行な任意の断面の10mm2の範囲において、1/3mm×1/3mmの領域ごとに平均細孔径を求めた場合に、平均細孔径が15μm以上である大細孔領域が0.1mm2以上存在し、平均細孔径が8μm以下である小細孔領域が、0.1mm2以上存在する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
排ガスの流路となる一方の端部から他方の端部まで延びる複数のセルを区画形成する多孔質セラミックからなる隔壁を有するハニカム構造体と、 所定の前記セルの一方の開口端部と残余の前記セルの他方の開口端部とに配設された目封止部と、を備え、 前記隔壁の表面に平行な任意の断面の10mm2の範囲において、1/3mm×1/3mmの領域ごとに平均細孔径を求めた場合に、平均細孔径が15μm以上である大細孔領域が0.1mm2以上存在し、平均細孔径が8μm以下である小細孔領域が、0.1mm2以上存在するウォールフロー型排ガス浄化フィルタ。
IPC (8件)：
F01N 3/023 ,  F01N 3/035 ,  F01N 3/022 ,  F01N 3/28 ,  F01N 3/10 ,  B01J 35/04 ,  B01D 53/94 ,  B01D 53/86
FI (11件)：
F01N3/02 321A ,  F01N3/02 301C ,  F01N3/28 301P ,  F01N3/10 A ,  F01N3/28 301C ,  F01N3/28 301A ,  B01J35/04 301E ,  B01J35/04 301C ,  B01D53/36 104B ,  B01D53/36 104A ,  B01D53/36 C
Fターム (62件)：
3G090AA01 ,  3G090AA03 ,  3G090BA01 ,  3G090EA01 ,  3G091AA02 ,  3G091AB03 ,  3G091AB05 ,  3G091AB13 ,  3G091BA25 ,  3G091BA38 ,  3G091FB15 ,  3G091GA06 ,  3G091GA20 ,  3G091GA24 ,  3G091GB05W ,  3G091GB07W ,  4D048AA06 ,  4D048AA13 ,  4D048AA14 ,  4D048AA18 ,  4D048AB01 ,  4D048AB02 ,  4D048AB05 ,  4D048BA03Y ,  4D048BA08Y ,  4D048BA10X ,  4D048BA19Y ,  4D048BA30Y ,  4D048BA31Y ,  4D048BA33Y ,  4D048BA41Y ,  4D048BB02 ,  4D048BB14 ,  4D048BB17 ,  4D048CD05 ,  4G169AA01 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA01A ,  4G169BA05A ,  4G169BA13A ,  4G169BA13B ,  4G169BB04A ,  4G169BC43A ,  4G169BC71A ,  4G169BC72A ,  4G169BC75A ,  4G169CA03 ,  4G169CA07 ,  4G169CA09 ,  4G169CA18 ,  4G169DA06 ,  4G169EA19 ,  4G169EA25 ,  4G169EA27 ,  4G169EB17X ,  4G169EC17X ,  4G169EC20 ,  4G169FA01 ,  4G169FB06 ,  4G169FB30 ,  4G169FB67
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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