特許
J-GLOBAL ID：201303051760594549

マスクブランク用基板、マスクブランク、フォトマスク及び半導体デバイスの製造方法

発明者：
田辺 勝

田辺 勝 について


出願人/特許権者：
HOYA株式会社

HOYA株式会社 について


代理人 (4件)： 青木 宏義 ,  天田 昌行 ,  岡田 喜雅 ,  菅野 亨
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-134648
公開番号（公開出願番号）：特開2012-208509
特許番号：特許第5323966号
出願日： 2012年06月14日
公開日（公表日）： 2012年10月25日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 露光装置のマスクステージにチャックされるフォトマスクのマスクブランク用基板であって、 前記基板は、転写パターンを形成する薄膜を設ける側の主表面を、仮想基準基板の仮想基準主表面に対し、中央部を含む132mm角内の領域でフィッティングを行ったときの差が40nm以下であり、 前記仮想基準主表面は、中央部で相対的に高く、周縁部で相対的に低くなる凸形状であり、かつ中央部を含む132mm角内の領域において真球の球面形状であることを特徴とするマスクブランク用基板。
IPC (2件)：
G03F 1/60 ( 201 2.01) ,  C03C 17/34 ( 200 6.01)
FI (2件)：
G03F 1/60 ,  C03C 17/34 Z
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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