特許
J-GLOBAL ID：200903074216265270
フォトマスクブランク用基板、フォトマスクブランク及びフォトマスク
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (3件)：
小島 隆司
, 重松 沙織
, 小林 克成
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-280437
公開番号（公開出願番号）：特開2005-043830
出願日： 2003年07月25日
公開日（公表日）： 2005年02月17日
要約：
【解決手段】 基板のマスクパターンを形成する上面の外周縁をなす各々の辺の内側2mmと10mmとの間の四角リング形状領域において、上面の四角リング形状領域の最小自乗平面を基準面とした場合、この基準面上に基板の中心を中心点として基準面を横切るように円を描いたときに、基準面を通る円弧部分における基準面から四角リング形状領域への高さの最大値と最小値との差が0.3μm以下であるフォトマスクブランク用基板。【効果】 本発明の基板は、ウェハー露光時に良好な表面平坦形状を示すものであり、この基板を使用してフォトマスクブランクを作製し、更にフォトマスクに加工すれば、ウェハー露光装置のマスクステージにフォトマスクを真空チャック等により固定したときに、基板表面の反りが小さく平坦性の高い状態となりウェハー上に微細な露光パターンを正確な位置と幅で描画することが可能である。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
一辺の長さが6インチ以上の四角形のフォトマスクブランク用基板であって、該基板のマスクパターンを形成する上面の外周縁をなす各々の辺の内側2mmと10mmとの間の四角リング形状領域において、上記上面の四角リング形状領域の最小自乗平面を基準面とした場合、この基準面上に上記基板の中心を中心点として上記基準面を横切るように円を描いたときに、上記基準面を通る円弧部分における上記基準面から上記四角リング形状領域への高さの最大値と最小値との差が0.3μm以下であることを特徴とするフォトマスクブランク用基板。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/14 A
, H01L21/30 502P
2H095BB03
, 2H095BC27
, 2H095BC28
