特許

J-GLOBAL ID：201303051882159290

マイクロ波加熱装置及びマイクロ波加熱方法

発明者： 内田 博 ,  冨田 浩幸 ,  篠崎 研二 ,  竹内 和彦 ,  長畑 律子 ,  原中 正行 ,  和田 雄二 ,  望月 大
出願人/特許権者： 昭和電工株式会社 ,  独立行政法人産業技術総合研究所 ,  国立大学法人東京工業大学
代理人 (3件)： 在原 元司 ,  清水 昇 ,  竹居 信利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-244284
公開番号（公開出願番号）：特開2013-101808
出願日： 2011年11月08日
公開日（公表日）： 2013年05月23日
要約：

【課題】導体の膜または導体を分散させた分散物の膜を適切に加熱することができるマイクロ波加熱装置及びマイクロ波加熱方法を提供する。【解決手段】導波管16aに波長範囲1m〜1mmのマイクロ波を供給しつつ、この導波管16aの中において、導体の膜または導体を分散させた分散物の膜を形成した基板24を、上記膜の形成面が前記マイクロ波の磁力線方向と略平行になり、かつ上記マイクロ波の磁界の最大点を含んだ位置に配置し、またはその位置を移動させる。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

導波管と、 前記導波管に波長範囲1m〜1mmのマイクロ波を供給するマイクロ波供給手段と、 前記導波管内において、導体の膜または導体を分散させた分散物の膜を形成した基板を、前記膜の形成面が前記マイクロ波の磁力線方向と略平行になり、かつ前記マイクロ波の磁界の最大点を含んだ位置に配置し、またはその位置を移動させる基板供給手段と、 を備えることを特徴とするマイクロ波加熱装置。

IPC (1件)：

H05B 6/70

FI (1件)：

H05B6/70 E

Fターム (5件)：

3K090AA13 ,  3K090AB20 ,  3K090BB18 ,  3K090CA01 ,  3K090PA07