特許
J-GLOBAL ID：201303059692152401
放射性セシウム汚染物の処理方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人東京国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-053633
公開番号（公開出願番号）：特開2013-186084
出願日： 2012年03月09日
公開日（公表日）： 2013年09月19日
要約：
【課題】放射性セシウムを濃縮して安定化させる放射性セシウム汚染物の処理技術を提供する。【解決手段】放射性セシウム汚染物の処理方法は、放射性セシウムCsに汚染された固相体(Cs汚染物)に溶媒を添加してこの放射性セシウムCsを溶出させる工程(S11)と、放射性セシウムCsを含有した溶媒に放射性セシウムの吸着剤を投入する工程(S13)と、前記放射性セシウムを吸着した前記吸着剤から生成された放射性セシウムの吸着物を分離して溶媒から回収する工程(S15)と、を含む。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
放射性セシウムに汚染された固相体に溶媒を添加して前記放射性セシウムを溶出させる工程と、
前記放射性セシウムを含有した前記溶媒に放射性セシウムの吸着剤を投入する工程と、
前記放射性セシウムを吸着した前記吸着剤から生成された放射性セシウムの吸着物を分離して前記溶媒から回収する工程と、を含むことを特徴とする放射性セシウム汚染物の処理方法。
IPC (2件)：
FI (4件)：
G21F9/28 521A
, G21F9/28 Z
, G21F9/12 501B
, G21F9/12 501G
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (7件)
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