特許
J-GLOBAL ID:201303062699330926

脂質二分子膜基板、脂質二分子膜基板の製造方法、及びハイドロゲル基板

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 志賀 正武 ,  村山 靖彦 ,  及川 周
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-269091
公開番号(公開出願番号):特開2013-118852
出願日: 2011年12月08日
公開日(公表日): 2013年06月17日
要約:
【課題】本発明は、脂質二分子膜の安定性が向上した脂質二分子膜基板、該脂質二分子膜基板の製造方法、及びその製造方法に用いられるハイドロゲル基板を提供することを目的としている。【解決手段】(1)基板10に穴部20が設けられ、該穴部20の開口21が脂質二分子膜30によって覆われている脂質二分子膜基板1であって、穴部20の中にハイドロゲル22が充填されていることを特徴とする脂質二分子膜基板1。(2)脂質二分子膜30とハイドロゲル22とが、開口21において接していることを特徴とする前記脂質二分子膜基板。(3)穴部20の開口21に該開口を狭める方向に延びるオーバーハング部11aが設けられていることを特徴とする前記脂質二分子膜基板。(4)脂質二分子膜30における開口21を覆っている部分に、膜タンパク質31が配置されていることを特徴とする前記脂質二分子膜基板。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基板に穴部が設けられ、該穴部の開口が脂質二分子膜によって覆われている脂質二分子膜基板であって、 前記穴部の中にハイドロゲルが充填されていることを特徴とする脂質二分子膜基板。
IPC (5件):
C12M 1/00 ,  G01N 27/416 ,  G01N 27/327 ,  G01N 27/30 ,  C12M 1/34
FI (5件):
C12M1/00 A ,  G01N27/46 336M ,  G01N27/30 351 ,  G01N27/30 A ,  C12M1/34 Z
Fターム (4件):
4B029AA08 ,  4B029BB15 ,  4B029CC03 ,  4B029FA15
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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引用文献:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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